[发明专利]极紫外光源的靶材料供应装置

说明书

技术领域

本公开的主题涉及极紫外(EUV)光源的靶材料供应装置。

背景

极紫外(”EUV”)光，举例来说，具有50nm左右或更短的波长的电磁辐射(有时也被称为软X射线)，且包括波长为大约13nm的光，可被用于光刻工艺以在基板上，例如，硅晶片，产生极微小的特征。

产生EUV光的方法包括，但不限于，将具有发射谱线在EUV范围内的元素(例如，氙、锂、或锡)的材料转换成等离子态。在一个这样的方法中，可通过用可被称为驱动激光的放大光束照射靶材料(例如，以液滴、流、或团簇材料的形式)来产生通常被称为激光产生等离子体(“LPP”)的所需的等离子体。对于这个过程，通常在密封容器(例如真空腔室)中产生等离子体，并用各种类型的测量仪器进行监视。

概述

在一个总的方面，极紫外(EUV)光源的靶材料供应装置包括管，该管包括第一端、第二端、以及限定在第一端和第二端之间的侧壁。所述管的外表面的至少一部分包括电绝缘材料、第一端接收被增压的靶材料、且第二端限定孔口，所述被增压的靶材料通过该孔口来产生靶材料液滴流。靶材料供应装置还包括管的外表面上的导电涂层。该涂层被配置为将管的外表面电连接到地，藉此减少外表面上的表面电荷。

实施例可包括如下特征的一个或多个。导电涂层可以是铱。导电涂层可以是铬。导电涂层可具有50nm或更少的厚度。导电涂层可位于孔口的一部分上。导电涂层可位于管的内表面上。此装置可包括耦合到管的调制器，且该调制器可被配置为以调制频率偏转所述管。导电涂层可位于调制器的外表面上。导电涂层可位于管的侧壁和第二端的一部分上。

在一些实施例中，此装置可包括接收管的第一端的导电配件，以及在该导电配件和位于管侧壁外表面上的导电涂层的一部分之间的导电连接。导电涂层可以是该导电连接。导电连接可以是与金属配件和导电涂层直接物理接触的截然不同的金属元件。

靶材料可以是熔锡。靶材料液滴流可从孔口出行向着接收激光束的靶区域行进，且液滴流中的第一液滴和液滴流中的第二液滴可在不同的时间通过靶区域的大体相同的空间位置。

在另一个总的方面，递送极紫外(EUV)光源的靶材料液滴流的组件被涂覆。此组件包括管，该管具有外表面、第一端、以及限定了孔口的第二端，其中该外表面的至少一部分为电绝缘，且孔口被配置为使得压缩的靶材料通过来产生靶材料小滴流。该组件被置于包括金属材料的源的腔室内。组件以相对金属材料的源呈角度地被放置，且侧壁外表面的至少一部分和第二端被涂覆以金属材料，其中选择源和该组件之间的距离以调整涂层的厚度。

实施例可包括如下特征中的一个或多个。金属材料可以是铬。金属材料可以是铱。涂层的厚度可小于50nm。涂层的厚度可在10nm和50nm之间。金属蒸汽可被生成于腔室内，且用金属材料涂覆侧壁外表面的至少一部分和第二端可包括将金属蒸汽溅射到侧壁的外表面和第二端上。孔口的内部可被涂覆达孔口宽度一半的距离。金属蒸汽可被溅射到侧壁的外表面和第二端上达30秒到1分钟之间的曝光时间。在用金属材料涂覆毛细管的外侧壁的部分和第二端之后，调制器可被耦合至毛细管。置于腔室内的组件可包括耦合到毛细管的调制器，且该调制器的外表面的至少一部分可用金属材料涂覆。调制器可包括围绕着毛细管的侧壁一部分的压电管。

在另一个总的方面，在极紫外(EUV)光源中生产靶材料液滴流包括将绝缘管外表面上的金属涂层电接地、向与绝缘管流体连通的贮液器内的靶材料施加压力、通过管的第一端接收增压靶材料、并使得靶材料通过由管的第二端限定的孔口来生产液滴流。液滴在真空腔室内朝靶区域行进，其中靶区域配置为接收足以将靶材料液滴转化为离子态的激光束，且流中的第一液滴和流中的第二液滴在不同时间通过靶区域的大体上相同的空间位置。

实施例可包括如下或其它特征。压力可为至少4000psi。

任意如上所述的技术的实施例可包括靶材料供应装置、喷嘴组件、EUV光源、EUV系统、配套元件、方法、过程、设备、或装置。一个或多个实施例的细节在如下附图和描述中有详解。其它特征将在描述和附图、以及权力要求中显而易见。

图示描述

图1为激光产生等离子体极紫外光源的框图。

图2A为示例性靶材料供应装置的侧视图。

图2B为图2A的靶材料供应装置的侧视图，其中在装置的一部分上具有表面电荷。

图3A为具有导电涂层的示例性靶材料供应装置的侧视图。

图3B为图3A取切面3B-3B的靶材料供应装置的管的剖视图。