[发明专利]基于功率需要的并行RF发射中的RF放大器控制在审

专利信息
申请号: 201380052739.0 申请日: 2013-10-01
公开(公告)号: CN104755951A 公开(公告)日: 2015-07-01
发明(设计)人: U·卡切尔;H·H·霍曼;P·博尔纳特 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: G01R33/483 分类号: G01R33/483;G01R33/561;G01R33/565
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 李光颖;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及一种用于从对象(101)中的靶体积采集磁共振数据的磁共振成像系统(100),所述磁共振成像系统(100)包括:多个激励器件(201),其用于生成以所述靶体积中的切片/厚片空间变化为靶向的切片选择性/或厚片选择性空间射频RF激励磁场;和控制器(219),其被耦合到所述多个激励器件(201),其中,所述控制器(219)适于:确定由用于生成所述切片选择性/或厚片选择性空间RF激励磁场的所述多个激励器件(201)所需要的功率水平;将所述切片选择性/或厚片选择性空间RF激励磁场分解成所述多个激励器件(201)的相应的RF激励组成部分;控制所述多个激励器件(201)中的每个,以使用用于采集所述磁共振数据的所确定的功率水平来同时生成所述相应的RF激励组成部分。
搜索关键词: 基于 功率 需要 并行 rf 发射 中的 放大器 控制
【主权项】:
一种用于从对象(101)中的靶体积采集磁共振数据的磁共振成像MR系统(100),所述磁共振成像系统(100)包括:‑多个激励器件(201),其用于生成以所述靶体积中的切片/厚片空间变化为靶向的切片选择性/或厚片选择性空间射频RF激励磁场,以及‑控制器(219),其被耦合到所述多个激励器件(201),其中,所述控制器(219)适于:○确定由用于生成所述切片选择性/或厚片选择性空间RF激励磁场的所述多个激励器件(201)所需要的功率水平,○将所述切片选择性/或厚片选择性空间RF激励磁场分解成所述多个激励器件(201)的相应的RF激励组成部分(201),○控制所述多个激励器件(201)中的每个,以使用用于采集所述磁共振数据的所确定的功率水平来同时生成所述相应的RF激励组成部分。
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