[发明专利]溅射设备有效

专利信息
申请号: 201380046219.9 申请日: 2013-09-03
公开(公告)号: CN104812934B 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: P.L.摩尔斯 申请(专利权)人: 零件喷涂公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 赵华伟,谭祐祥
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一个实施方案涉及一种磁控管总成,其包括多个磁铁;和磁轭,其被构造来将所述多个磁铁保持在至少四个笔直、平行、独立线性阵列中。所述多个磁铁被配置在所述磁轭中以形成包括外部分和内部分的图案,其中所述外部分大体上围绕所述内部分的周边。所述线性阵列的末端部分包括一对转向区段,其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的一对长形区段的各自末端。每个转向区段中的磁铁被配置来在磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。
搜索关键词: 溅射 设备
【主权项】:
一种磁控管总成,其包括:多个磁铁;和磁轭,其被构造来将所述多个磁铁保持在至少四个笔直、平行、独立线性阵列中;其中所述多个磁铁被配置在所述磁轭上以形成包括外部分和内部分的图案,其中所述外部分大体上围绕所述内部分的周边;其中所述线性阵列的末端部分包括一对转向区段,其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的一对长形区段的各自末端;其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。
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