[发明专利]溅射设备

权利要求书

1.一种磁控管总成，其包括：

多个磁铁；和

磁轭，其被构造来将所述多个磁铁保持在至少四个笔直、平行、独立线性阵列中；

其中所述多个磁铁被配置在所述磁轭上以形成包括外部分和内部分的图案，其中所述外部分大体上围绕所述内部分的周边；

其中所述线性阵列的末端部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的一对长形区段的各自末端；

其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。

2.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在所述磁场中形成沿着所述靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线，因此每个曲线的所得靶腐蚀分量在靶材旋转时不彼此重叠。

3.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中所述磁铁被配置在每个转向区段中，使得由所述转向区段中的所述磁铁形成的所述磁场中的所述至少两个或更多个不同曲线的每一个形成在具有相对于彼此转动的磁极的两个磁铁之间。

4.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中所述磁铁被配置在每个转向区段中，使得由所述转向区段中的所述磁铁形成的所述磁场中的所述至少两个或更多个不同曲线的每一个形成在具有相对于彼此转动至少90度的磁极的两个或更多个磁铁之间。

5.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中磁铁的个别线性阵列被配置来在所述磁轭上形成径向图案、阶状图案或扁平图案。

6.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中所述多个磁铁的至少一个具有与至少一个所述其它磁铁不同的几何形状、大小、定向或磁强度。

7.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中所述图案的所述外部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述一对长形区段的各自末端，且其中所述转向区段包括两个或更多个阶部。

8.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中所述磁轭被构造使得由所述多个磁铁形成的所述图案可在不修改所述磁轭的设计的情况下重新构造。

9.一种溅射系统，其包括：

室，基板移动穿过所述室；

阴极总成，其包括：

长形可旋转圆柱管，其安装在所述室中且具有靶表面；和

磁控管总成，其定位在所述长形可旋转圆柱管内，所述磁控管总成包括：

多个磁铁；和

磁轭，其被构造来将所述多个磁铁保持在至少四个笔直、平行、独立线性阵列中；

其中所述多个磁铁被配置在所述磁轭上以形成包括外部分和内部分的图案，其中所述外部分大体上围绕所述内部分的周边；

其中所述线性阵列的末端部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的一对长形区段的各自末端；

其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在所述磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。

10.根据权利要求9所述的系统，其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在所述磁场中形成沿着所述靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线，因此每个曲线的所得靶腐蚀分量在靶表面旋转时不彼此重叠。

11.根据权利要求9所述的系统，其中所述磁铁被配置在每个转向区段中，使得由所述转向区段中的所述磁铁形成的所述磁场中的所述至少两个或更多个不同曲线的每一个形成在具有相对于彼此转动的磁极的两个磁铁之间。

12.根据权利要求9所述的系统，其中所述磁铁被配置在每个转向区段中，使得由所述转向区段中的所述磁铁形成的所述磁场中的所述至少两个或更多个不同曲线的每一个形成在具有相对于彼此转动至少90度的磁极的两个或更多个磁铁之间。

13.根据权利要求9所述的系统，其中磁铁的所述个别线性阵列被配置来在所述磁轭上形成径向图案、阶状图案或扁平图案。

14.根据权利要求9所述的系统，其中所述多个磁铁的至少一个具有与至少一个所述其它磁铁不同的几何形状、大小、定向或磁强度。

15.根据权利要求9所述的系统，其中所述图案的所述外部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨一对长形区段的各自末端，且其中所述转向区段包括两个或更多个阶部。