[发明专利]用于组合式X‑射线及光学计量的模型建立及分析引擎有效
申请号: | 201380044542.2 | 申请日: | 2013-07-08 |
公开(公告)号: | CN104583872B | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 迈克尔·贝克曼;安德烈·谢卡格罗瓦;赵强;谭正泉 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 试样的结构参数是通过使所述试样的响应的模型拟合到在组合分析中通过不同测量技术所收集的测量来确定。所述试样对至少两种不同测量技术的响应的模型共享至少一共同几何参数。在一些实施例中,模型建立及分析引擎执行X‑射线及光学分析,其中至少一共同参数是在分析期间耦合。可顺序地、并行地或通过顺序分析与并行分析的组合来进行所述响应模型到所测量数据的所述拟合。在另一方面中,基于所述响应模型与所述对应测量数据之间的所述拟合的质量来更改所述模型的结构。举例来说,基于所述响应模型与对应测量数据之间的所述拟合来重新建构所述试样的几何模型。 | ||
搜索关键词: | 用于 组合式 射线 光学 计量 模型 建立 分析 引擎 | ||
【主权项】:
一种模型建立及分析引擎,其包括:几何模型建立模块,其经配置以产生试样的结构的几何模型;光学响应函数建立模块,其经配置以至少部分地基于所述几何模型而产生所述试样的所述结构对入射的光学辐射的响应的光学响应模型;X‑射线响应函数建立模块,其经配置以至少部分地基于所述几何模型而产生所述试样的所述结构对入射的X‑射线辐射的响应的X‑射线响应模型,其中所述光学响应模型与所述X‑射线响应模型两者包含来自所述几何模型的至少一共同几何参数;及拟合分析模块,其经配置以进行以下步骤:接收第一量的测量数据,所述测量数据指示响应于入射于所述试样上的光学照射束而从所述试样检测的光学辐射的量;接收第二量的测量数据,所述测量数据指示响应于入射于所述试样上的X‑射线照射束而从所述试样检测的X‑射线辐射的量;基于所述光学响应模型与所述第一量的测量数据的拟合及所述X‑射线响应模型与所述第二量的测量数据的拟合来确定至少一试样参数值;及输出所述至少一试样参数值以供存储于存储器中。
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