[发明专利]用于组合式X‑射线及光学计量的模型建立及分析引擎

权利要求书

1.一种模型建立及分析引擎，其包括：

几何模型建立模块，其经配置以产生试样的结构的几何模型；

光学响应函数建立模块，其经配置以至少部分地基于所述几何模型而产生所述试样的所述结构对入射的光学辐射的响应的光学响应模型；

X-射线响应函数建立模块，其经配置以至少部分地基于所述几何模型而产生所述试样的所述结构对入射的X-射线辐射的响应的X-射线响应模型，其中所述光学响应模型与所述X-射线响应模型两者包含来自所述几何模型的至少一共同几何参数；及

拟合分析模块，其经配置以进行以下步骤：

接收第一量的测量数据，所述测量数据指示响应于入射于所述试样上的光学照射束而从所述试样检测的光学辐射的量；

接收第二量的测量数据，所述测量数据指示响应于入射于所述试样上的X-射线照射束而从所述试样检测的X-射线辐射的量；

基于所述光学响应模型与所述第一量的测量数据的拟合及所述X-射线响应模型与所述第二量的测量数据的拟合来确定至少一试样参数值；及

输出所述至少一试样参数值以供存储于存储器中。

2.根据权利要求1所述的模型建立及分析引擎，其中所述至少一共同几何参数的值是基于所述X-射线响应模型与所述第二量的测量数据的所述拟合而确定，且所述所确定的值在所述光学响应模型与所述第一量的测量数据的所述拟合中被视为常量以确定所述至少一试样参数值。

3.根据权利要求1所述的模型建立及分析引擎，

其中所述至少一共同几何参数在并行拟合分析中被视为全局参数，所述并行拟合分析包含所述光学响应模型与所述第一量的测量数据的所述拟合及所述X-射线响应模型与所述第二量的测量数据的所述拟合两者。

4.根据权利要求2所述的模型建立及分析引擎，其中所述光学响应模型与所述第一量的测量数据的所述拟合涉及最小化成本函数。

5.根据权利要求3所述的模型建立及分析引擎，其中所述并行拟合分析涉及最小化组合的成本函数。

6.根据权利要求1所述的模型建立及分析引擎，其中所述拟合分析模块经进一步配置以进行以下操作：

确定成本函数的残值，所述成本函数相关联于所述第一量的测量数据与所述光学响应模型的所述拟合及所述第二量的测量数据与所述X-射线响应模型的所述拟合；

确定所述残值是否超过预定阈值；

如果所述残值超过所述预定阈值，那么重新建构所述试样的所述结构的所述几何模型；及

如果所述残值未超过所述预定阈值，那么存储所述试样的所述结构的所述几何模型。

7.根据权利要求1所述的模型建立及分析引擎，其中所述光学响应模型及所述X-射线响应模型共享所述几何模型的所有所述几何参数。

8.根据权利要求1所述的模型建立及分析引擎，其中所述至少一共同几何参数为以下各者中的任一者：线边缘粗糙度、线宽度粗糙度、微孔大小、微孔密度、侧壁角、剖面、膜厚度、临界尺寸及间距。

9.根据权利要求1所述的模型建立及分析引擎，其中所述模型建立及分析引擎为组合式X-射线/光学计量工具的计算系统。

10.根据权利要求9所述的模型建立及分析引擎，其中所述组合式X-射线/光学计量工具包括：

基于液体金属的X-射线照射系统，其包含液体金属X-射线照射源及X-射线照射光学器件，所述X-射线照射光学器件经配置以使入射的X-射线束塑形并将所述入射的X-射线束导引到试样的检验区域；

X-射线检测器，其经配置以响应于所述入射的X-射线束而检测来自所述试样的X-射线辐射的所述量；

光学照射系统，其包含光学照射源及光学照射光学器件，所述光学照射光学器件经配置以与所述入射的X-射线束同时地进行使入射的光学照射束塑形并将所述入射的光学照射束导引到所述试样的所述检验区域，其中所述入射的光学照射束及所述入射的X-射线束在空间上重叠于所述试样的所述检验区域处；及

光学检测器，其经配置以响应于所述入射的光学照射束而检测来自所述试样的光学辐射的所述量。