[发明专利]含硅高支化聚合物及含有该聚合物的固化性组合物有效
| 申请号： | 201380039560.1 | 申请日： | 2013-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN104507990B9 | 公开（公告）日： | 2017-07-18 |
| 发明（设计）人： | 田村浩康;松山元信;原口将幸 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08F290/06 | 分类号： | C08F290/06;B32B27/00;C08J7/04;C09D4/00;C09D7/12;C09D143/04;C09K3/18 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 段承恩,李照明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供一种硬涂层形成用组合物，其在高光滑性和疏水疏油性方面优异，并且在耐指纹性、污渍擦除性等防污性方面也优异，另一方面，可通过一般所使用的氮气氛下或空气气氛下的紫外线照射而固化。解决手段是一种含硅高支化聚合物、含有该高支化聚合物的固化性组合物、由该组合物得到的固化膜、以及使用该组合物得到的硬涂膜，所述含硅高支化聚合物是通过使单体A和单体B在聚合引发剂D的存在下进行聚合而得到的，所述单体A在分子内具有2个以上自由基聚合性双键，所述单体B在分子内具有聚硅氧烷链和至少1个自由基聚合性双键，相对于该单体A的摩尔数，所述聚合引发剂D的量为5～200摩尔％。 | ||
| 搜索关键词： | 含硅高支化 聚合物 含有 固化 组合 | ||
【主权项】：
一种固化性组合物，其含有： (a)含硅高支化聚合物0.01～10质量份、 (b)活性能量射线固化性多官能单体100质量份、和 (c)通过活性能量射线产生自由基的聚合引发剂0.1～25质量份,所述含硅高支化聚合物是通过使单体A和单体B在聚合引发剂D的存在下进行聚合而得到的，所述单体A在分子内具有2个以上自由基聚合性双键，所述单体B在分子内具有聚硅氧烷链和至少1个自由基聚合性双键，相对于该单体A的摩尔数，所述聚合引发剂D的量为5～200摩尔％。
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