[发明专利]含硅高支化聚合物及含有该聚合物的固化性组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种含硅高支化聚合物、添加了该含硅高支化聚合物而成的固化性组合物、及由该组合物得到的硬涂膜。

背景技术

聚合物(高分子)材料近年来在越来越多的领域中被利用。伴随于此，与各个领域对应，作为基体的聚合物的性状以及其表面、界面的特性变得重要。例如通过使用表面能低的氟系化合物作为表面改性剂，可期待疏水疏油性、防污性、非粘合性、剥离性、脱模性、光滑性、耐磨性、抗反射特性、耐化学药品性等与表面和界面控制相关的特性的提高，提出了各种方案。

在LCD(液晶显示器)、PDP(等离子体显示器)、触摸面板等各种显示器的表面使用具备用于防止划伤的硬涂层的各种塑料膜。但是，硬涂层容易附着指纹痕、污渍，附着的指纹痕、污渍不能简单地除去。因此，存在显著损伤显示器的图像的可见性或损伤显示器的美观这样的问题。特别是触摸面板表面，由于是人手直接接触的表面，因此，特别强烈地期望指纹痕不易附着，且在附着的情况下容易除去。

作为用于形成这样的硬涂层的硬涂层形成用涂布液，具体而言，公开了对含有硅氧烷系化合物和/或氟系化合物的硬涂层用组合物照射活性能量射线而得到的固化层在防污性和光滑性方面优异(专利文献1)。另外，公开了由含有含氟高支化聚合物以及全氟聚醚化合物和/或硅氧烷化合物的涂布用固化性组合物得到的硬涂膜在耐指纹性等表面特性方面优异(专利文献2)。此外，公开了由添加了具有聚硅氧烷的侧链的支化聚合物而成的 涂料组合物得到的高分子成型体可长时期维持抗粘合性和耐污染性(专利文献3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-152751号公报

专利文献2：国际公开第2012/074071号小册子

专利文献3：日本特开2002-121487号公报

发明内容

发明要解决的课题

如上所述，虽然提出了各种将硅化合物(硅氧烷系表面调节剂)、氟化合物(氟系表面调节剂)添加到硬涂层形成用涂布液中来对硬涂层的表面进行改性的方法，但在具备含有硅化合物或氟化合物的硬涂层的各种显示器或电子设备框体中，使用它们的使用者在使用纸巾或湿纸巾擦去附着于其表面的污渍时，如果表面不具有充分的光滑性，则存在污渍的除去性不良好这样的课题。另外，近年来，在智能手机、平板PC等的触摸面板中，由于进行滑动或轻弹这样的用手指等对其表面进行描绘这样的操作，因此，要求可得到更高光滑性的表面的技术。

即，要求一种高光滑性和疏水疏油性优异，且可通过一般所使用的氮气氛下或空气气氛下的紫外线照射而固化的硬涂层形成用组合物。

用于解决课题的手段

本发明人们为了实现上述目的进行了悉心研究，结果发现，通过在固化型组合物中添加一种含硅高支化聚合物，可对由该组合物得到的固化膜赋予高光滑性和疏水疏油性，而且，该固化膜可在利用紫外线照射的惯用的固化条件下表现出这些性能，以至于完成了本发明，所述含硅高支化聚合物是通过使单体A和单体B在聚合引发剂D的存在下进行聚合而得到的，所述单体A在分子内具有2个以上自由基聚合性双键，所述单体B在 分子内具有聚硅氧烷链和至少1个自由基聚合性双键，相对于该单体A的摩尔数，所述聚合引发剂D的量为5～200摩尔％。

即，作为第一观点，本发明涉及一种含硅高支化聚合物，其是通过使单体A和单体B在聚合引发剂D的存在下进行聚合而得到的，所述单体A在分子内具有2个以上自由基聚合性双键，所述单体B在分子内具有聚硅氧烷链和至少1个自由基聚合性双键，相对于该单体A的摩尔数，所述聚合引发剂D的量为5～200摩尔％。

作为第二观点，涉及一种含硅高支化聚合物，其是通过使单体A、单体B和单体C在聚合引发剂D的存在下进行聚合而得到的，所述单体A在分子内具有2个以上自由基聚合性双键，所述单体B在分子内具有聚硅氧烷链和至少1个自由基聚合性双键，所述单体C在分子内具有碳原子数6～30的烷基或碳原子数3～30的脂环基和至少1个自由基聚合性双键，相对于该单体A的摩尔数，所述聚合引发剂D的量为5～200摩尔％。

作为第三观点，涉及第一观点或第二观点所述的含硅高支化聚合物，所述单体B为具有至少1个乙烯基或(甲基)丙烯基的化合物。

作为第四观点，涉及第三观点所述的含硅高支化聚合物，所述单体B为下述式[1]所示的化合物。