[发明专利]包含非离子表面活性剂和碳酸盐的化学机械抛光组合物在审
| 申请号： | 201380035573.1 | 申请日： | 2013-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN104487529A | 公开（公告）日： | 2015-04-01 |
| 发明（设计）人： | R·赖夏特;Y·李;M·劳特尔;W·L·W·基乌 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘娜;刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 化学机械抛光组合物，包含：(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物，其中所述颗粒为茧状，(B)非离子表面活性剂，(C)碳酸盐或碳酸氢盐，(D)醇，和(M)含水介质。还提供了制备半导体装置的方法，所述方法包括在CMP组合物存在下将在半导体工业中使用的基底化学机械抛光，及其CMP组合物的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 离子 表面活性剂 碳酸盐 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，包含：(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物，其中所述颗粒为茧状，(B)非离子表面活性剂，(C)碳酸盐或碳酸氢盐，(D)醇，和(M)含水介质。
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