[发明专利]间苯二酚衍生物及其化妆应用有效
申请号: | 201380032421.6 | 申请日: | 2013-06-19 |
公开(公告)号: | CN105408306B | 公开(公告)日: | 2017-09-12 |
发明(设计)人: | 泽维尔·马拉 | 申请(专利权)人: | 欧莱雅 |
主分类号: | C07C235/34 | 分类号: | C07C235/34;C07C235/38;C07C243/32;C07C259/06;C07C323/59;C07D207/16;C07D209/20;C07D233/64;C07D307/52;C07C317/28;C07D295/192;A61K8/37;A61K |
代理公司: | 中国商标专利事务所有限公司11234 | 代理人: | 宋义兴,桑丽茹 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及分子式(I)所示化合物其中R为氢原子或乙酰基;Y为选自OR’或NAR”的自由基;及它们的盐、它们的溶剂化物和它们的光学异构体、它们的外消旋盐,单独的或作为混合物。本发明也涉及它们的化妆用途尤其是作为脱色剂的用途,以及相关的化妆方法。 | ||
搜索关键词: | 间苯二酚 衍生物 及其 化妆 应用 | ||
【主权项】:
分子式(I)所示化合物:其中:R为氢原子,Y为NAR”的自由基;A指下列自由基:饱和直链C1‑C10烷基、支链C3‑C10烷基或C3‑C8环烷基,所述基团也可能可选地由一至三个选自下列基团的相同或不同基团取代:i)‑OR15,ii)‑C(O)OR16,iii)苯基或吲哚基,其可选地可由一个至三个羟基基团取代,饱和的非芳香族C3‑C8环烷基或杂环基,其可选地由一个至三个C1‑C4烷基基团取代,R15是H;R16选自H和饱和直链C1‑C10烷基;R”选自自由基:a)‑H;和b)饱和直链C1‑C10烷基基团,所述基团也可能可选地由一至三个选自下列基团的相同或不同基团取代:i)‑OR25,R25选自H;要理解A和R”可与携带它们的氮形成饱和的非芳香族杂环;及其它们的盐和它们的光学异构体、它们外消旋盐,单独地或作为混合物。
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