[发明专利]间苯二酚衍生物及其化妆应用

权利要求书

1.分子式(I)所示化合物：

其中：

R为氢原子，

Y为NAR”的自由基；

A指下列自由基：

饱和直链C₁-C₁₀烷基、支链C₃-C₁₀烷基或C₃-C₈环烷基，所述基团也可能可选地由一至三个选自下列基团的相同或不同基团取代：

i)-OR15，

ii)-C(O)OR16，

iii)苯基或吲哚基，其可选地可由一个至三个羟基基团取代，

饱和的非芳香族C₃-C₈环烷基或杂环基，其可选地由一个至三个C₁-C₄烷基基团取代，

R15是H；

R16选自H和饱和直链C₁-C₁₀烷基；

R”选自自由基：

a)-H；和

b)饱和直链C₁-C₁₀烷基基团，所述基团也可能可选地由一至三个选自下列基团的相同或不同基团取代：

i)-OR25，

R25选自H；

要理解A和R”可与携带它们的氮形成饱和的非芳香族杂环；

及其它们的盐和它们的光学异构体、它们外消旋盐，单独地或作为混合物。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中所述化合物有下列含义：

a)R＝H，Y＝-NAR”，R”＝H，A＝饱和直链C₁-C₁₀烷基，其可选地由i)羟基取代；

b)R＝H，Y＝-NAR”，R”＝H，A＝饱和直链C₁-C₁₀烷基，其由vi)一个或两个相同的COOR16基团取代，且可选地由选自下列基团的基团取代：

ix)苯基，其可选地由羟基取代，以及

ix)吲哚基，以及

R16选自H和饱和的直链C₁-C₁₀烷基；

c)R＝H，Y＝-NAR”，R”＝H，A＝饱和直链C₁-C₁₀烷基，其可选地由选自下列基团的基团取代；

ix)苯基，其可选地由羟基取代，

ix)杂芳基，其成环原子数为5～12，含有氧原子，

x)饱和杂环，成环原子数为5～8，含有一个或两个氧原子，可选地由一个或两个C₁-C₄烷基取代，

xii)C₃-C₈环烷基，

d)R＝H，Y＝-NAR”，R”＝H，A＝饱和C₃-C₁₀烷基，其可选地由选自下列基团的基团取代；

i)羟基,

vi)COOR16基团，R16选自H和饱和的直链C₁-C₁₀烷基；

e)R＝H，Y＝-NAR”，R”＝H，和

A＝环C₃-C₈烷基；

f)R＝H，Y＝-NAR”，和

A和R”与携带它们的氮原子形成环原子数为5～8的饱和杂环，可选地包含氧原子；

g)R＝H，Y＝-NAR”，和

A为饱和的直链C₁-C₁₀烷基，其可选地由选自下列基团的一个或两基团取代：

ii)-羟基,

vi)－COOR16，

R16为饱和直链C₁-C₁₀烷基；和

R”为饱和的直链C₁-C₁₀烷基，其可选地由选自下列基团的一个或两基团取代：

i)羟基。