[发明专利]用于在x射线曝光期间评估x射线射束不均匀性的源的存在的方法有效

专利信息
申请号: 201380030642.X 申请日: 2013-06-05
公开(公告)号: CN104350738B 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: M.克雷森斯;H.范高伯根 申请(专利权)人: 爱克发医疗保健公司
主分类号: H04N5/32 分类号: H04N5/32
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 王洪斌,胡莉莉
地址: 比利时*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 对通过x射线检测器的基本上均匀的照射获得的图像中的至少一个关注区域的像素值执行统计分析,并且通过将统计分析的结果与至少一个预定接受准则进行比较来决定x射线射束不均匀性的源的存在。
搜索关键词: 用于 射线 曝光 期间 评估 不均匀 存在 方法
【主权项】:
一种用于产生用于校正直接放射线照相术或计算放射线照相术图像的增益校正数据的方法,所述方法包括使x射线检测器暴露于基本上均匀的x射线射束以产生x射线图像、将所述x射线图像转换成数字图像表示、将所述x射线图像表示用于所述增益校正数据的计算的步骤,其特征在于,‑对所述图像中的至少一个关注区域ROI的像素值执行统计分析,‑通过将统计分析的结果与至少一个预定接受准则进行比较来决定x射线射束不均匀性的源的存在,‑当所述决定指示不存在x射线射束不均匀性的源时,将所述图像用于增益校正数据的计算;其中所述准则是图像范围准则,所述图像范围准则为:如果这些孤立的干扰全都发生在与图像边界相邻的ROI中,则有限量的孤立的受到干扰的ROI仍然能够被接受;其中所述统计分析包括相对于直方图中的中心值确定的所述关注区域中的所述像素值的所述直方图的低直方图肩和高直方图肩的评估。
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