[发明专利]用于在x射线曝光期间评估x射线射束不均匀性的源的存在的方法有效
申请号: | 201380030642.X | 申请日: | 2013-06-05 |
公开(公告)号: | CN104350738B | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | M.克雷森斯;H.范高伯根 | 申请(专利权)人: | 爱克发医疗保健公司 |
主分类号: | H04N5/32 | 分类号: | H04N5/32 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 王洪斌,胡莉莉 |
地址: | 比利时*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 射线 曝光 期间 评估 不均匀 存在 方法 | ||
1.一种用于产生用于校正直接放射线照相术或计算放射线照相术图像的增益校正数据的方法,所述方法包括使x射线检测器暴露于基本上均匀的x射线射束以产生x射线图像、将所述x射线图像转换成数字图像表示、将所述x射线图像表示用于所述增益校正数据的计算的步骤,
其特征在于,
-对所述图像中的至少一个关注区域ROI的像素值执行统计分析,
-通过将统计分析的结果与至少一个预定接受准则进行比较来决定x射线射束不均匀性的源的存在,
-当所述决定指示不存在x射线射束不均匀性的源时,将所述图像用于增益校正数据的计算;
其中所述准则是图像范围准则,所述图像范围准则为:如果这些孤立的干扰全都发生在与图像边界相邻的ROI中,则有限量的孤立的受到干扰的ROI仍然能够被接受;
其中所述统计分析包括相对于直方图中的中心值确定的所述关注区域中的所述像素值的所述直方图的低直方图肩和高直方图肩的评估。
2.如权利要求1所述的方法,其中至少两个部分重叠的关注区域经受所述统计分析。
3.如权利要求1所述的方法,其中单个关注区域经受所述统计分析。
4.如权利要求1所述的方法,其中仅对关注区域中的非缺陷像素执行所述统计分析。
5.如权利要求1所述的方法,其中所述中心值是所述关注区域的像素值的中值、平均值或方式值。
6.如权利要求5所述的方法,其中作为通过对低肩部分和高肩部分取阈值而确定的至少一个显著性水平的评估的结果获得关于射束不均匀性的原因的检测的决定,所述低肩部分和高肩部分被确定为具有低于低肩值的值的ROI像素的量除以ROI像素的总量,以及具有高于高肩值的值的ROI像素的量除以ROI像素的总量。
7.如权利要求5所述的方法,其中作为相对于预定比率阈值水平的肩比的不平衡水平的评估的结果获得关于射束不均匀性的原因的检测的决定,所述肩比被确定为最大肩部分除以最小肩部分,其中低肩部分和高肩部分是具有低于低肩值的值的ROI像素的量和具有高于高肩值的值的ROI像素的量。
8.如权利要求6或7所述的方法,其中所述低肩值和高肩值被确定为所述中心值或平均值或方式值减去和加上下述各项的预定部分:
-所述中心值,或
-为图像中的在空间上分布的关注区域的子集计算的标准差的中值或平均值。
9.如权利要求6或7所述的方法,其中作为对至少一个显著性水平和不平衡水平执行的逻辑运算的结果获得关于射束不均匀性的原因的检测的决定。
10.一种方法,其中非校正检测器图像、偏移映射图校正图像、缺陷像素映射图校正图像或两种校正的组合经受如权利要求1所述的方法。
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