[发明专利]光刻设备在审
| 申请号： | 201380030257.5 | 申请日： | 2013-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN104350426A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备包括被构造为支撑图案形成装置(5)的图案形成装置支撑件，图案形成装置能够在辐射束的截面中施加图案以形成图案化的辐射束，图案形成装置支撑件包括相对于物体可移动地设置的可移动结构(3)，相对于可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持图案形成装置的图案形成装置保持器(4)，配置用于相对于物体移动可移动结构(3)的致动器(8)，以及被配置用于相对于可移动结构(3)移动图案形成装置保持器(4)的超短冲程致动器(9)；被构造为保持衬底(W)的衬底支撑件(WT)；以及被配置用于将图案化的辐射束投影至衬底的目标部分(C)之上的投影系统(PS)，用于测量作为衬底相对于参考物体的所需位置(SPWS)与衬底相对于参考物体的实际位置之间的差的衬底位置误差(eWS)的位置测量系统(IF)，以及配置用于至少部分地基于衬底位置误差(eWS)而移动致动器(8)和超短冲程致动器(9)的控制器(100、200)。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：图案形成装置支撑件，被构造为支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的截面中向所述辐射束施加图案以形成图案化的辐射束，所述图案形成装置支撑件包括相对于物体可移动地设置的可移动结构、相对于所述可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持所述图案形成装置的图案形成装置保持器、被配置用于相对于所述物体移动所述可移动结构的致动器、以及被配置用于相对于所述可移动结构而移动所述图案形成装置保持器的超短冲程致动器；被构造为保持衬底的衬底支撑件；以及投影系统，被配置用于将所述图案化的辐射束投影至所述衬底的目标部分上，位置测量系统，用于测量衬底位置误差，所述衬底位置误差是所述衬底相对于参考物体的所需位置与所述衬底相对于所述参考物体的实际位置之间的差；以及控制器，被配置用于至少部分地基于所述衬底位置误差而移动所述致动器和所述超短冲程致动器。
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