[发明专利]光刻设备

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

图案形成装置支撑件，被构造为支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的截面中向所述辐射束施加图案以形成图案化的辐射束，所述图案形成装置支撑件包括相对于物体可移动地设置的可移动结构、相对于所述可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持所述图案形成装置的图案形成装置保持器、被配置用于相对于所述物体移动所述可移动结构的致动器、以及被配置用于相对于所述可移动结构而移动所述图案形成装置保持器的超短冲程致动器；

被构造为保持衬底的衬底支撑件；以及

投影系统，被配置用于将所述图案化的辐射束投影至所述衬底的目标部分上，

位置测量系统，用于测量衬底位置误差，所述衬底位置误差是所述衬底相对于参考物体的所需位置与所述衬底相对于所述参考物体的实际位置之间的差；以及

控制器，被配置用于至少部分地基于所述衬底位置误差而移动所述致动器和所述超短冲程致动器。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述位置测量系统附加地用于测量可移动结构位置误差，所述可移动结构位置误差是所述可移动结构相对于所述物体的所需位置与所述可移动结构相对于所述物体的实际位置之间的差。

3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中，所述控制器附加地被配置用于至少部分地基于所述可移动结构位置误差而移动所述致动器。

4.根据权利要求2或3所述的光刻设备，其中，所述控制器附加地被配置用于至少部分地基于所述可移动结构位置误差而移动所述超短冲程致动器。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光刻设备，其中，所述控制器被配置用于至少部分地基于具有在预定幅度之下的频率的所述位置误差的分量而移动所述致动器，并且至少部分地基于具有在所述预定幅度之上的频率的所述位置误差的分量而移动所述超短冲程致动器。

6.一种光刻设备，包括：

图案形成装置支撑件，被构造为支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的截面中向所述辐射束施加图案以形成图案化的辐射束，所述图案形成装置支撑件包括相对于物体可移动地设置的可移动结构、相对于所述可移动结构可移动地设置并且被配置用于保持所述图案形成装置的图案形成装置保持器、被配置用于相对于所述物体移动所述可移动结构的致动器、以及被配置用于相对于所述可移动结构而移动所述图案形成装置保持器的超短冲程致动器；

被构造为保持衬底的衬底支撑件；以及

投影系统，被配置用于将所述图案化的辐射束投影至所述衬底的目标部分上；

位置测量系统，用于测量衬底位置误差，所述衬底位置误差是所述衬底相对于参考物体的所需位置与所述衬底相对于所述参考物体的实际位置之间的差；以及

控制器，被配置用于排他地基于以下项而移动所述超短冲程致动器：所述衬底位置误差以及可选地所述图案形成装置保持器相对于所述可移动结构的测量位置。

7.根据权利要求6所述的光刻设备，其中，所述控制器被配置用于基于所述物体保持器相对于所述可移动结构的所述测量位置以反馈方式基于所述位置误差信号而移动所述超短冲程致动器。

8.根据权利要求6或7所述的光刻设备，其中，所述控制器包括用于基于所述衬底位置误差以开环方式移动所述超短冲程致动器的开环电路。

9.根据权利要求8所述的光刻设备，其中，所述开环电路包括用于将所述衬底位置误差信号的乘法因子设置为在1和0.2之间的乘法器。