[发明专利]使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的系统及方法有效
| 申请号： | 201380029748.8 | 申请日： | 2013-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN104508460B | 公开（公告）日： | 2017-09-12 |
| 发明（设计）人： | 多夫·夏查尔;拉菲·迪彼丘多 | 申请（专利权）人： | B-纳米股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙)31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 以色列雷*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的方法，所述方法包含通过在一第一及第二非真空环境中将一电子束从所述电子显微镜引导至一材料上，以产生所述材料的一第一及第二特性频谱，在所述第一及第二非真空环境中所述电子束分别产生第一及第二散射量；收集从所述材料发射出的第一及第二X射线；比对所述第一及第二特性频谱，并指出数个强度随着散射的增加而增长的峰值；通过消除至少一个强度随着散射的增加而增长的峰值，以便从所述第一及第二特性频谱中的至少一个产生所述材料的一散射补偿特性频谱。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 电子显微镜 在于 真空 环境 材料 进行 分析 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种使用电子显微镜对存在于非真空环境的材料进行分析的方法，其特征在于：所述方法包含步骤：通过下述步骤产生一材料的一第一特性频谱：在一第一非真空环境中将一电子束从一电子显微镜引导至所述材料上，在所述第一非真空环境中所述电子束产生一第一散射量；收集从所述材料发射出的多个第一X射线；及对所述第一X射线进行频谱分析；接着，通过下述步骤产生所述材料的一第二特性频谱：在一第二非真空环境中将一电子束从所述电子显微镜引导至所述材料上，在所述第二非真空环境中所述电子束产生一第二散射量；收集从所述材料发射出的多个第二X射线；及对所述第二X射线进行频谱分析；比对所述第一特性频谱及第二特性频谱，并指出数个强度随着散射的增加而增长的峰值；通过消除至少一个强度随着散射的增加而增长的峰值，以便从所述第一特性频谱及第二特性频谱中的至少一个产生所述材料的一散射补偿特性频谱。
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