[发明专利]生产具有层叠沉积层的基材的方法

摘要

本发明涉及使用包括注入头装置的设备来生产层叠基材，并且包括以下步骤：提供包括气体承载压力器件的注入头装置，以及从气体承载压力器件朝向相对的基材表面注入承载气体，以在注入头装置中在输送平面内使基材无支撑地平衡。重复进行以下步骤：分别使得来自第一前驱体源的第一前驱体气体和来自第二前驱体源的第二前驱体与基材相对表面接触；第一前驱体气体和第二前驱体气体供应到在设置成相对和朝向基材的相应侧面的第一和第二沉积空间内；在输送平面内建立在沉积空间和基材之间的相对运动，以将基材输送到设置在注入头装置内的相对和面向基材的相应侧面的反应空间中；以及在基材表面的至少一部分上沉积前驱体气体后，在任意一个或两个反应室内提供反应气体、等离子体、激光致辐射和/或紫外线辐射中的至少一种用以使第一前驱体气体和第二前驱体气体中的任一个反应，以在基材表面的每一个相对的侧面的每一个上获得原子层。在至少在一次重复中在基材的相对表面上同时供应第一前驱体气体和第二前驱体气体。

主权项

一种生产具有层叠沉积层的基材的方法，包括步骤：a)提供包括气体承载压力器件的注入头装置；b)从所述气体承载压力器件朝向基材的相对的表面注入承载气体，以在所述注入头装置中在输送平面内使基材无支撑地平衡；以及重复进行以下步骤：c)分别使用来自第一前驱体源的第一前驱体气体和来自第二前驱体源的第二前驱体气体与基材的相对的表面接触，第一前驱体气体和第二前驱体气体供应到设置为相对和朝向基材的相应侧面的第一沉积空间和第二沉积空间内；d)在输送平面内建立在沉积空间和基材之间的相对运动，以将基材输送到设置在注入头装置内的相对和面向基材的相应侧面的反应空间中；以及e)在任一个反应空间或在两个反应空间中提供反应气体、等离子体、激光致辐射和/或紫外线辐射中的至少一种用以在所述基材表面的至少一部分上沉积之后使所述第一前驱体气体和第二前驱体气体中的任一个反应，以在所述基材表面的每一个相对的侧面上获得原子层；f)其中，在至少一次重复中在基材的相对表面上同时供应第一前驱体气体和第二前驱体气体。