[发明专利]生产具有层叠沉积层的基材的方法在审

专利信息
申请号: 201380029105.3 申请日: 2013-04-02
公开(公告)号: CN104395499A 公开(公告)日: 2015-03-04
发明(设计)人: 罗杰·马赛厄斯·威廉·格特泽恩;塞巴斯蒂安·安东尼厄斯·弗朗西斯库斯·戴尔利森;约瑟夫·阿德里亚努斯·玛丽亚·德斯瓦特;阿德里亚努斯·约翰尼斯·彼得鲁斯·玛丽亚·维梅尔 申请(专利权)人: 索雷特克有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/458;C23C16/54;H01L21/677
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;刘华联
地址: 荷兰埃*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 生产 具有 层叠 沉积 基材 方法
【权利要求书】:

1.一种生产具有层叠沉积层的基材的方法,包括步骤:

a)提供包括气体承载压力器件的注入头装置;

b)从所述气体承载压力器件朝向基材的相对的表面注入承载气体,以在所述注入头装置中在输送平面内使基材无支撑地平衡;以及重复进行以下步骤:

c)分别使用来自第一前驱体源的第一前驱体气体和来自第二前驱体源的第二前驱体气体与基材的相对的表面接触,第一前驱体气体和第二前驱体气体供应到设置为相对和朝向基材的相应侧面的第一沉积空间和第二沉积空间内;

d)在输送平面内建立在沉积空间和基材之间的相对运动,以将基材输送到设置在注入头装置内的相对和面向基材的相应侧面的反应空间中;以及

e)在任一个反应空间或在两个反应空间中提供反应气体、等离子体、激光致辐射和/或紫外线辐射中的至少一种用以在所述基材表面的至少一部分上沉积之后使所述第一前驱体气体和第二前驱体气体中的任一个反应,以在所述基材表面的每一个相对的侧面上获得原子层;

f)其中,在至少一次重复中在基材的相对表面上同时供应第一前驱体气体和第二前驱体气体。

2.根据权利要求1所述的生产层叠基材的方法,其特征在于,在与停止第二前驱体气体的供应的不同的时刻停止第一前驱体气体的供应。

3.根据权利要求1所述的生产层叠基材的方法,其特征在于,对于第一前驱体气体和第二前驱体气体而言,多个沉积空间是不同的。

4.根据权利要求1所述的生产层叠基材的方法,其特征在于,所述第一前驱体气体和第二前驱体气体相对于彼此为化学惰性的。

5.根据权利要求1所述的生产层叠基材的方法,其特征在于,所述第一前驱体气体和第二前驱体气体包括含有铝、锌或钛中的一种的金属有机材料。

6.根据权利要求1所述的生产层叠基材的方法,其特征在于,还包括从第三前驱体源向第三沉积空间供应与第一前驱体气体和第二前驱体气体不同的第三前驱体气体的步骤,所述第三沉积空间设置在任一个注入头装置中并且通过限制气体幕与所述第一沉积空间和第二沉积空间间隔开,以提供掺杂的层叠层。

7.根据权利要求1所述的生产层叠基材的方法,其特征在于,由第一前驱体气体生产的层叠的尺寸与由第二前驱体气体生产的层叠的尺寸不同。

8.一种用于生产具有层叠沉积层的基材的装置,包括:

注入头装置,其包括:

与第一前驱体气体源和第二前驱体气体源相连的第一沉积空间和第二沉积空间;在使用中,所述第一沉积空间和第二沉积空间设置成相对和面向基材的相应侧面,并且设置成使来自第一前驱体源的第一前驱体气体接触基材表面,使来自第二前驱体源的第二前驱体气体接触基材表面;在使用中,所述第一沉积空间和第二沉积空间由所述注入头和所述基材表面而界定;

相对设置的并且在使用中分别面向基材的相应侧面的第一反应空间和第二反应室,其设置成使基材的任一表面与反应气体、等离子体、激光致辐射和紫外线辐射中的至少一种相接触,用以在基材表面的至少一部分上沉积前驱体气体之后反应所述前驱体;在使用中,所述第一反应空间和第二反应空间由所述基材表面而界定;以及

气体承载压力器件,其设置成在所述注入头和所述基材表面之间注入承载气体,使得在所述的印刷头装置中通过所述气体承载压力器件来使所述基材无支撑地平衡;

压力控制系统,其设置成选择性地使第一前驱体源和第二前驱体源中的任意一个向所述第一沉积空间和第二沉积空间供应,并且选择性地将反应气体、等离子体、激光致辐射和/或紫外线辐射中的任意一种供应给任一个或两个反应空间;其中,所述压力控制系统还设置成在至少一次重复中在基材相对表面上同时供应第一前驱体气体和第二前驱体气体;

输送系统,其设置成提供在基材和注入头之间的沿着基材平面的相对移动以形成输送平面,所述基材被沿着所述输送平面在所述第一沉积空间和第二沉积空间以及所述第一反应空间和第二反应空间之间输送。

9.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述压力控制系统设置成在与停止第二前驱体气体的供应的不同的时刻停止第一前驱体气体的供应。

10.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,对于第一前驱体气体和第二前驱体气体而言,多个沉积空间是不同的。

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