[发明专利]二氧化硅‑改性的‑氟化物广角减反射涂层有效
| 申请号： | 201380028469.X | 申请日： | 2013-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN104508559B | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | M·J·康杰米;P·G·德瓦;J·D·玛拉齐;P·F·米开罗斯基;H·施赖伯;王珏 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B1/115 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 郭辉 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种涂层，该涂层包括由在基片顶部的高折射率金属氟化物层、在该高折射率层顶部的低折射率金属氟化物层组成的两元金属氟化物涂层，以及在低折射率层顶部的SiO2层或者含0.2‑4.5重量％(2000ppm‑45,000ppm)F的F‑SiO2层。在一种实施方式中，F‑SiO2中的F含量是5000ppm‑10,000ppm的F。所述高折射率和低折射率材料的沉积厚度各自小于或等于0.9四分之一波长，且封盖材料的沉积厚度是5‑25纳米。本发明还涉及具有上述涂层的光学元件，以及制造所述涂层的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 改性 氟化物 广角 反射 涂层 | ||
【主权项】：
一种用于在深紫外波长范围操作的激光光学器件的光学涂层，所述涂层包括：包括高折射率金属氟化物材料的第一层，所述第一层具有0.78四分之一波长至0.90四分之一波长的厚度；包括低折射率金属氟化物材料的第二层，所述第二层具有0.78四分之一波长至0.90四分之一波长的厚度；和选自SiO2和F‑SiO2的第三层；其中所述第三层的厚度是5.0‑25纳米，其中在193纳米的波长下，所述涂层在22°入射角的反射率小于0.5％，其中所述第一层直接设置在基片上，所述第二层在所述第一层的顶部，所述第三层设置在所述第二层的顶部作为封盖层，其中所述第三层是致密化的。
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