[发明专利]自沉积型用于铜的表面处理剂和带树脂被膜的含铜基材的制造方法无效
| 申请号： | 201380020600.8 | 申请日： | 2013-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN104246011A | 公开（公告）日： | 2014-12-24 |
| 发明（设计）人： | 森和彦;清水宏志;宫崎雅矢;南淳一 | 申请（专利权）人： | 日本帕卡濑精株式会社 |
| 主分类号： | C23C22/52 | 分类号： | C23C22/52;C23C22/82 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 蔡晓菡;刘力 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于，提供通过自沉积而能够在铜材料上形成密合性·耐腐蚀性·电特性优异的被膜、液体稳定性优异的自沉积型用于铜的表面处理剂。本发明的自沉积型用于铜的表面处理剂含有1～60质量份的水溶性或水分散性聚合物、30～99质量份的以水为主体的溶剂、和0.01～5质量份的铜络合剂，pH3.0时的氧化还原电位在-500～＋200mV（vs.SHE）的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 用于 表面 处理 树脂 基材 制造 方法 | ||
【主权项】：
自沉积型用于铜的表面处理剂，其特征在于，含有1～60质量份的水溶性或水分散性聚合物、30～99质量份的以水为主体的溶剂、和0.01～5.0质量份的铜络合剂，pH3.0时的氧化还原电位在‑500～＋200mV（vs.SHE）的范围内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本帕卡濑精株式会社，未经日本帕卡濑精株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380020600.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
