[发明专利]透明导电图案的制造方法有效
| 申请号： | 201380013196.1 | 申请日： | 2013-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN104160457A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 菅沼克昭;能木雅也;酒金婷;菅原彻;内田博;篠崎研二 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社;国立大学法人大阪大学 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H05K3/10 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘航;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种通过脉冲光照射而使导电性提高了的透明导电图案的制造方法。通过在基板上涂布分散有金属纳米丝的分散液并干燥、沉积，向沉积于所述基板上的金属纳米丝照射脉冲宽度为20微秒～50毫秒的脉冲光，将所述金属纳米丝的交点接合，来制造透明导电图案。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 图案 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种透明导电图案的制造方法，其特征在于，向沉积于基板上的金属纳米丝照射脉冲宽度为20微秒～50毫秒的脉冲光，将所述金属纳米丝的交点接合。
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