[发明专利]透明导电图案的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及透明导电图案的制造方法。

背景技术

为了在玻璃基板等电介质表面形成透明导电膜，以往使用了铟锡氧化物(ITO)等的真空蒸镀金属氧化物。

但是，上述ITO等的真空蒸镀金属氧化物，存在脆弱且没有弯曲耐性的问题。另外，由于薄膜制作需要真空过程，因此也存在制造成本变高的问题。而且，在薄膜制作时需要高温，也存在不能使用耐热性低的塑料膜等的树脂基板的问题。另外，为了将薄膜加工成为规定的图案需要蚀刻工序，生产率差。

因此，作为不需要在真空、高温气氛下的处理的透明导电图案的形成方法，曾提出了各种的使用金属纳米丝的透明导电膜的制造方法。例如，在下述专利文献1中记载了一种通过将金属纳米丝分散于液体中，使该液体干燥，从而在该基板上形成金属纳米丝网层，制作透明导电体的方法。另外，也记载了使压力或热作用于上述金属纳米丝网层而使导电性提高的内容。

另外，在下述专利文献2中记载了一种直线状金属纳米丝相互在交点接合而形成网的导电膜。另外，也记载了通过压接或镀敷来进行上述接合的内容。

另外，在下述非专利文献1中记载了一种向银纳米丝照射10～120秒的30w/cm²的光而进行网状化的技术。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2009-505358号公报

专利文献2：国际公开第2009/035059号小册子

非专利文献

非专利文献1：Self-limited plasmonic welding of silver nanowire junctions NATURE MATERIALS(2012)DOI：10.1038/NMAT3238Eric C.Garnett,Wenshan Cai,et al.

发明内容

但是，在上述专利文献1中，使压力或热作用，在专利文献2中，通过镀敷而使金属纳米丝网的导电性提高，但透明性和导电性尚具有竞合(trade off)的关系，使两者同时提高是不充分的。另外，专利文献1的情况下，为使热作用而使用干燥炉，但也存在难以应用于树脂基板的问题。并且，在专利文献1中，由于长时间照射高能量的光，因此存在银纳米丝变为高温、难以应用于树脂基板的问题。

本发明的目的是提供一种即使对于耐热性不高的树脂基板也能够应用的导电性提高了的透明导电图案的制造方法。

为达成上述目的，本发明的一实施方式是透明导电图案的制造方法，该制造方法的特征在于，向沉积于基板上的金属纳米丝照射脉冲宽度为20微秒～50毫秒的脉冲光，将上述金属纳米丝的交点接合。

在此，优选：上述金属纳米丝为银纳米丝，上述银纳米丝的直径为10～300nm、长度为3～500μm。

另外，金属纳米丝向基板上的沉积，优选是在基板上涂布分散有金属纳米丝的分散液并进行干燥。该分散液也可以含有粘合剂树脂。

根据本发明，能够通过脉冲光照射而使透明导电图案的导电性提高。

附图说明

图1是用于说明脉冲光的定义的图。

图2是表示在实施例中制作出的银纳米丝的SEM像的图。

具体实施方式

以下，对用于实施本发明的方式(以下称为实施方式)进行说明。

本实施方式涉及的透明导电图案，包含金属纳米丝而构成，通过向沉积于基板上的金属纳米丝照射脉冲光使金属纳米丝相互的交点接合而形成。在本说明书中，所谓「脉冲光」是光照射期间(照射时间)为短时间的光，在反复进行多次光照射的情况下，意味着如图1所示那样在第一光照射期间(on)与第二光照射期间(on)之间具有不照射光的期间(照射间隔(off))的光照射。在图1中，表示出脉冲光的光强度为一定，但在1次的光照射期间(on)内光强度可以变化。上述脉冲光，是从具备氙闪光灯等的闪光灯的光源照射的。使用这样的光源，向沉积于上述基板的金属纳米丝照射脉冲光。在反复照射n次的情况下，将图1中的1个循环(on+off)反复进行n次。再者，在反复照射的情况下，为了在进行下次的脉冲光照射时，使基材能够冷却至室温附近而优选从基材侧进行冷却。