[发明专利]玻璃掩模用热固化型保护液及玻璃掩模在审
申请号: | 201380011994.0 | 申请日: | 2013-04-01 |
公开(公告)号: | CN104145216A | 公开(公告)日: | 2014-11-12 |
发明(设计)人: | 根岸朋子 | 申请(专利权)人: | 木本股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/48 | 分类号: | G03F1/48;B32B17/10;C08G59/24;C08K5/17;C08L63/00;C08L83/04;C09D7/12;C09D163/00;C09D183/04;G03F1/60 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 雒运朴 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的玻璃掩模用热固化型保护液在制成保护膜时,保护膜的硬涂覆性优异,不产生裂纹,且可防止因环氧树脂与硅酮树脂的不相容所致的涂膜白化,同时可提高制成保护膜时对玻璃的粘接性与耐光性。另外,本发明提供一种玻璃掩模用热固化型保护液,由于其仅含有胺系化合物作为固化剂,故可提高保护液的保存稳定性。该玻璃掩模用热固化型保护液含有硅酮树脂、环氧树脂及硅酮油,且前述环氧树脂中的50重量%以上且100重量%以下由氢化芳香族环氧树脂构成。 | ||
搜索关键词: | 玻璃 掩模用热 固化 保护 | ||
【主权项】:
一种玻璃掩模用热固化型保护液,其特征在于,包含硅酮树脂、环氧树脂及硅酮油,且所述环氧树脂中的50重量%以上且100重量%以下由氢化芳香族环氧树脂构成。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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