[发明专利]玻璃掩模用热固化型保护液及玻璃掩模在审
| 申请号： | 201380011994.0 | 申请日： | 2013-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN104145216A | 公开（公告）日： | 2014-11-12 |
| 发明（设计）人： | 根岸朋子 | 申请（专利权）人： | 木本股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/48 | 分类号： | G03F1/48;B32B17/10;C08G59/24;C08K5/17;C08L63/00;C08L83/04;C09D7/12;C09D163/00;C09D183/04;G03F1/60 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的玻璃掩模用热固化型保护液在制成保护膜时，保护膜的硬涂覆性优异，不产生裂纹，且可防止因环氧树脂与硅酮树脂的不相容所致的涂膜白化，同时可提高制成保护膜时对玻璃的粘接性与耐光性。另外，本发明提供一种玻璃掩模用热固化型保护液，由于其仅含有胺系化合物作为固化剂，故可提高保护液的保存稳定性。该玻璃掩模用热固化型保护液含有硅酮树脂、环氧树脂及硅酮油，且前述环氧树脂中的50重量％以上且100重量％以下由氢化芳香族环氧树脂构成。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 掩模用热 固化 保护 | ||
【主权项】：
一种玻璃掩模用热固化型保护液，其特征在于，包含硅酮树脂、环氧树脂及硅酮油，且所述环氧树脂中的50重量％以上且100重量％以下由氢化芳香族环氧树脂构成。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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