[发明专利]在挠性基材上无电沉积镍-磷合金的方法有效

专利信息
申请号: 201380008861.8 申请日: 2013-01-21
公开(公告)号: CN104105819A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: B·A·詹森 申请(专利权)人: 安美特德国有限公司
主分类号: C23C18/36 分类号: C23C18/36;H05K3/24
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李跃龙
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及在挠性基材、例如挠性印刷电路板和类似物上无电沉积可弯曲的镍-磷合金层的方法。由含镍离子、次磷酸根离子、至少一种络合剂和选自甲醛和甲醛前体的晶粒细化添加剂的含水镀覆浴,沉积镍-磷合金层。所获得的镍-磷合金层具有与挠性基材垂直取向的柱状显微组织且是可充分弯曲的。
搜索关键词: 基材 上无电 沉积 合金 方法
【主权项】:
在挠性基材上无电沉积可弯曲的镍‑磷合金层的方法,该方法依次包括下述步骤:a.提供铜电路附着在至少一侧的挠性基材,b.使该挠性基材接触包含下述的含水镀覆浴:i.镍离子,ii.次磷酸根离子,iii.至少一种络合剂和iv.选自甲醛和甲醛前体的晶粒细化添加剂,和由此在附着于挠性基材至少一侧的铜电路上沉积可弯曲的镍‑磷合金层。
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