[发明专利]衬底保持器和光刻装置在审
| 申请号： | 201380007715.3 | 申请日： | 2013-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN104272190A | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | R·拉法雷;S·唐德斯;N·坦凯特;N·德齐奥姆基纳;Y·卡瑞德;E·罗登伯格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于光刻装置的衬底保持器(100)，其包括具有提供在其表面上的薄膜叠层(110)的主体。该薄膜叠层形成电子或电气组件，诸如电极、传感器、加热器、晶体管或逻辑器件，并且具有顶部隔离层。用于支撑衬底(W)的多个突节(106)形成在薄膜叠层上或薄膜叠层的孔径中。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 保持 光刻 装置 | ||
【主权项】：
一种用于在光刻装置中使用的衬底保持器，所述衬底保持器包括：具有表面的主体；提供在所述表面上且形成电气组件的薄膜叠层；以及提供在所述薄膜叠层上且具有用于支撑衬底的端面的多个突节。
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