[发明专利]衬底保持器和光刻装置

权利要求书

1.一种用于在光刻装置中使用的衬底保持器，所述衬底保持器包括：

具有表面的主体；

提供在所述表面上且形成电气组件的薄膜叠层；以及

提供在所述薄膜叠层上且具有用于支撑衬底的端面的多个突节。

2.根据权利要求1所述的衬底保持器，其中所述主体是由与所述突节不同的材料形成。

3.根据权利要求1或23所述的衬底保持器，其中所述突节已经通过从下列各项构成的组中选择的工艺形成：

沉积和选择性蚀刻；

通过图案化抗蚀剂层溅射；

通过硬掩模沉积；以及

激光烧结。

4.根据权利要求1至3中的任一权利要求所述的衬底保持器，其中至少一个突节包括第一材料的第一层和不同于所述第一材料的第二材料的第二层。

5.根据权利要求1至4中的任一权利要求所述的衬底保持器，其中所述薄膜叠层包括电接触突节的至少一个过孔。

6.根据权利要求1至5中的任一权利要求所述的衬底保持器，其中所述薄膜叠层形成多个电气组件。

7.根据权利要求6所述的衬底保持器，其中所述多个电气组件中的第一电气组件和第二电气组件布置在所述薄膜叠层的单个层中。

8.根据权利要求6所述的衬底保持器，其中所述多个电气组件中的第一电气组件和第二电气组件布置在所述薄膜叠层的两个独立层中。

9.根据权利要求1至8中的任一权利要求所述的衬底保持器，其中所述组件是由下列构成的组中选择的组件：电极、加热器、传感器、晶体管和逻辑器件。

10.一种用于在光刻装置中使用的衬底保持器，所述衬底保持器包括：

具有表面的主体；

提供在所述表面上且形成电子或电气组件的薄膜叠层，所述薄膜叠层具有形成于其中的多个孔径；以及

多个突出，每个突出提供在所述薄膜叠层的孔径中，所述多个突出被配置成支撑衬底。

11.一种光刻装置，包括：

被配置成支撑图案化器件的支撑结构；

被布置为将由所述图案化器件图案化的光束投影至衬底上的投影系统；以及

被布置为保持所述衬底的衬底保持器，所述衬底保持器是根据权利要求1到10的任一权利要求所述的衬底保持器。

12.一种利用光刻装置的器件制造方法，所述方法包括：

将由图案化器件图案化的光束投影至衬底上，同时使所述衬底保持在衬底保持器中，其中所述衬底保持器包括：

具有表面的主体；

提供在所述表面上且形成电子或电气组件的薄膜叠层；以及

提供在所述薄膜叠层上且具有用于支撑所述衬底的端面的多个突节。

13.一种制造用于在光刻装置中使用的衬底保持器的方法，所述方法包括：

提供具有表面的主体；

在所述主体的表面上形成薄膜叠层；以及

在所述薄膜叠层上形成多个突节，所述突节从所述叠层突出且具有用于支撑衬底的端面。

14.根据权利要求13所述的方法，其中形成所述多个突节包括：

在所述薄膜叠层上形成突节形成材料的层；

在所述突节形成材料层上形成掩模；

通过所述掩模蚀刻所述突节形成材料；以及

移除所述掩模。

15.一种制造用于在光刻装置中使用的衬底保持器的方法，所述方法包括：

提供具有表面的主体；

在所述主体的所述表面上形成薄膜叠层；

在所述薄膜叠层中形成多个孔径；以及

在所述薄膜叠层中形成多个突节，所述突节从叠层突出且具有用于支撑衬底的端面。