[实用新型]一种新型研磨下盘结构有效
申请号: | 201320890464.5 | 申请日: | 2013-12-31 |
公开(公告)号: | CN203696719U | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 聂金根 | 申请(专利权)人: | 镇江市港南电子有限公司 |
主分类号: | B24B37/11 | 分类号: | B24B37/11 |
代理公司: | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人: | 季萍 |
地址: | 212132 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种新型研磨下盘结构,包括研磨下盘,所述研磨下盘上表面沿周向均匀分布有多条“S”型刀片,所述研磨下盘边缘沿圆周设置有多个导流孔,所述导流孔上孔口设有封口件,所述研磨下盘外侧设有环形挡块,所述环形挡块与研磨下盘连接处设有密封构件。本实用新型研磨下盘的“S”型刀片结构可加快研磨时间,大大提高研磨效率。研磨砂液以及细碎的晶片飞溅时被周炜的环形挡块阻挡,避免四周环境污染。清理时,使用刷子将研磨砂液以及细碎的晶片扫入导流孔即可,方便简单。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 研磨 下盘 结构 | ||
【主权项】:
一种新型研磨下盘结构,包括研磨下盘,其特征在于,所述研磨下盘上表面沿周向均匀分布有多条“S”型刀片,所述“S”型刀片间所成角度θ为30度;所述研磨下盘边缘沿圆周设置有多个导流孔,所述导流孔在研磨下盘内呈倾斜设置,所述导流孔与研磨下盘下表面所成角度δ为45度,所述导流孔上孔口设有封口件;所述研磨下盘外侧设有环形挡块,所述环形挡块与研磨下盘连接处设有密封构件,所述密封构件由两个“N”型密封环与一个“Z”型密封环组成,呈多重密封结构,三个密封环间间隙构成迷宫密封。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于镇江市港南电子有限公司,未经镇江市港南电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320890464.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种磁盘中心高度调节装置
- 下一篇:一种用于板型与框类部件的自动砂光设备