[实用新型]用于多反应腔化学气相沉积设备的多腔双密封圈系统有效
申请号: | 201320885191.5 | 申请日: | 2013-12-31 |
公开(公告)号: | CN203683659U | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 陈凯辉;金文彬 | 申请(专利权)人: | 中晟光电设备(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C30B25/02 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;包姝晴 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种用于多反应腔化学气相沉积设备的多腔双密封圈系统,使各腔体的双密封圈系统共用一个真空泵,并配合使用小孔径的限流垫片来隔离各腔体之间的压力影响;还可以进一步引入化学气相沉积设备中的其他真空泵作为备用,来实现系统稳定性。本实用新型可以有效减少真空泵设置的个数,降低了整台设备的占地面积和设备成本,同时也避免了对复杂的逻辑与互锁关系的设计,简化了软件与控制难度。 | ||
搜索关键词: | 用于 反应 化学 沉积 设备 多腔双 密封圈 系统 | ||
【主权项】:
一种用于多反应腔化学气相沉积设备的多腔双密封圈系统,其特征在于,所述多腔双密封圈系统中设置有多套双密封圈系统与所述化学气相沉积设备的多个反应腔(1)分别相对应;每套双密封圈系统进一步包含:双密封圈,对反应腔(1)的腔体实现密封;分支管路(7),与反应腔(1)的双密封圈之间区域连通;真空计(3),与分支管路(7)连通来监测双密封圈之间区域的压力;限流垫片(5),设置在分支管路(7)上对分支管路(7)中的气体流量进行限制;所述多腔双密封圈系统中还设有多套双密封圈系统共用的双密封圈真空泵(2、2’)、缓冲管(8)和主管路(9、91);各套双密封圈系统的分支管路(7),分别经由缓冲管(8)与主管路(9、91)相连通,主管路(9、91)和双密封圈真空泵(2、2’)相连接,所述双密封圈真空泵(2、2’)用以对各个反应腔(1)的双密封圈之间区域进行抽气。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的