[实用新型]用于多反应腔化学气相沉积设备的多腔双密封圈系统

权利要求书

1.一种用于多反应腔化学气相沉积设备的多腔双密封圈系统，其特征在于，

所述多腔双密封圈系统中设置有多套双密封圈系统与所述化学气相沉积设备的多个反应腔（1）分别相对应；每套双密封圈系统进一步包含：

双密封圈，对反应腔（1）的腔体实现密封；

分支管路（7），与反应腔（1）的双密封圈之间区域连通；

真空计（3），与分支管路（7）连通来监测双密封圈之间区域的压力；

限流垫片（5），设置在分支管路（7）上对分支管路（7）中的气体流量进行限制；

所述多腔双密封圈系统中还设有多套双密封圈系统共用的双密封圈真空泵（2、2’）、缓冲管（8）和主管路（9、91）；各套双密封圈系统的分支管路（7），分别经由缓冲管（8）与主管路（9、91）相连通，主管路（9、91）和双密封圈真空泵（2、2’）相连接，所述双密封圈真空泵（2、2’）用以对各个反应腔（1）的双密封圈之间区域进行抽气。

2.如权利要求1所述的多腔双密封圈系统，其特征在于，

每个分支管路（7）上设置有控制该分支管路（7）与缓冲管（8）连通或隔断的气动阀门（4）；

所述主管路（9、91）上设置有控制该主管路（9、91）与缓冲管（8）连通或隔断的第一控制阀（6、61）。

3.如权利要求2所述的多腔双密封圈系统，其特征在于，

每个分支管路（7）上的所述限流垫片（5），位于气动阀门（4）的出口端处，或者位于气动阀门（4）进口端处。 

4.如权利要求1所述的多腔双密封圈系统，其特征在于，

所述反应腔（1）的双密封圈之间区域的压力小于该反应腔（1）内因导入反应气体而具有的工艺压力。

5.如权利要求1所述的多腔双密封圈系统，其特征在于，

所述限流垫片（5）的孔径为0.1mm-2mm。

6.如权利要求1所述的多腔双密封圈系统，其特征在于，

所述多腔双密封圈系统还包括与缓冲管（8）或主管路（9）相连通的压力计（31）。

7.如权利要求1-6中任意一项所述的多腔双密封圈系统，其特征在于，

所述多腔双密封圈系统还包括多套双密封圈系统共用的备泵（21）和备用主管路（92）；备用主管路（92）与缓冲管（8）相连通，备用主管路（92）还和备泵（21）相连接，所述备泵（21）用以在双密封圈真空泵（2’）停止工作时对各个反应腔（1）的双密封圈之间区域进行抽气。

8.如权利要求7所述的多腔双密封圈系统，其特征在于，

所述备用主管路上设有控制该备用主管路（92）与缓冲管（8）连通或隔断的第二控制阀（62），所述备泵（21）对各个反应腔（1）的双密封圈之间区域进行抽气时，备用主管路（92）上的第二控制阀（62）处于打开状态，以使该备用主管路（92）与缓冲管（8）连通，同时第一控制阀61处于闭合状态。

9.如权利要求7所述的多腔双密封圈系统，其特征在于，

所述备泵（21）是化学气相沉积设备中传送腔（20）的真空泵，在该备泵（21）与传送腔（20）之间的抽气管道上设置有传送腔抽气阀（10），所述备泵（21）对各个反应腔（1）的双密封圈之间区域进行抽气时，传送腔抽气阀（10）处于闭合状态，以阻止备泵（21）对传送腔（20）抽气。

10.如权利要求7所述的多腔双密封圈系统，其特征在于，

所述多腔双密封圈系统还包括与备用主管路（92）相连通的压力计。