[实用新型]单枪多靶材的溅镀装置

摘要

本实用新型涉及一种单枪多靶材的溅镀装置，包含：一溅射腔，为腔体结构，该溅射腔为一可达到高真空的腔体；一标靶转盘，包含一盘体位在该溅射腔之内，该盘体上包含至少两穿孔，用于安置溅射所需要的靶材；一被镀物，安装在该溅射腔的一侧，而且对齐该标靶转盘中的一靶材；当该标靶转盘转动时，该被镀物也跟着对齐该标靶转盘中不同的靶材；当该标靶转盘上的靶材受驱动后，急速溅射向该被镀物，而在该被镀物上形成一层膜，即所谓的溅镀膜；一溅镀枪，其投射端对齐该被镀物，在安装态时该标靶转盘位于该被镀物及溅镀枪之间；该溅镀枪将会产生高电压、雷射、射频电波等不同的热源驱动靶材，以使得靶材的分子游离溅射到被镀物上。

主权项

一种单枪多靶材的溅镀装置，其特征在于，包含下列元件：一个溅射腔，为腔体结构，该溅射腔为一个可达到高真空的腔体；一个标靶转盘，包含一个盘体位于该溅射腔之内，该盘体上包含用于安置溅射所需要的靶材的至少两个穿孔； 一个被镀物，安装在该溅射腔的一侧，而且对齐该标靶转盘中的一个靶材；当该标靶转盘转动时，该被镀物也跟着对齐该标靶转盘中不同的靶材；一把能产生高电压、雷射、射频电波等不同的热源来驱动靶材以使得靶材的分子游离溅射到被镀物上的溅镀枪，其投射端对齐该被镀物，在安装态时该标靶转盘位于该被镀物及溅镀枪之间。