[实用新型]一种真空镀膜机有效
| 申请号： | 201320582320.3 | 申请日： | 2013-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN203559116U | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 王朝阳;宫睿 | 申请（专利权）人： | 无锡启晖光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 徐冬涛 |
| 地址： | 214174 江苏省无锡市惠山经*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空镀膜机，包括真空室（1），所述真空室（1）的内腔下部设置有电子枪（2）和辅助离子源（3），在电子枪（2）和辅助离子源（3）的上方设有正对两者的基片架（4），基片架（4）的外侧设有基片加热器（5）；基片架（4）的顶部和真空室（1）内腔顶部相连接的位置处设置有光控系统（6）和晶控系统（7），电子枪（2）、辅助离子源（3）、光控系统（6）和晶控系统（7）通过信号线与监视设备相连。本实用新型通过基片加热器在镀膜前对基片进行稳定均匀加热，以改善膜层致密性和均匀性；用离子束轰击正在生长的膜层，形成致密均匀的膜层结构，提高镀膜膜层的稳定性和质量，达到改善镀膜膜层光学和机械性能的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜机，包括真空室（1），其特征在于所述真空室（1）的内腔下部设置有电子枪（2）和辅助离子源（3），在电子枪（2）和辅助离子源（3）的上方设有正对电子枪（2）和辅助离子源（3）的基片架（4），基片架（4）的外侧设有与其相对应的基片加热器（5）；所述基片架（4）的顶部和真空室（1）内腔顶部相连接的位置处设置有光控系统（6）和晶控系统（7），电子枪（2）、辅助离子源（3）、光控系统（6）和晶控系统（7）通过信号线与监视设备相连。
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