[实用新型]一种真空镀膜机有效
| 申请号： | 201320582320.3 | 申请日： | 2013-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN203559116U | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 王朝阳;宫睿 | 申请（专利权）人： | 无锡启晖光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 徐冬涛 |
| 地址： | 214174 江苏省无锡市惠山经*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空镀膜机，包括真空室（1），其特征在于所述真空室（1）的内腔下部设置有电子枪（2）和辅助离子源（3），在电子枪（2）和辅助离子源（3）的上方设有正对电子枪（2）和辅助离子源（3）的基片架（4），基片架（4）的外侧设有与其相对应的基片加热器（5）；所述基片架（4）的顶部和真空室（1）内腔顶部相连接的位置处设置有光控系统（6）和晶控系统（7），电子枪（2）、辅助离子源（3）、光控系统（6）和晶控系统（7）通过信号线与监视设备相连。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于所述的真空室（1）上还设有真空排气系统（8）；该真空排气系统（8）由回转油泵和扩散油泵组成。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于所述的光控系统（6）通过检测镀层薄膜的透射率和反射率的变化来计算镀膜薄膜的光学厚度。
4.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于所述的晶控系统（7）通过检测基片固有频率的变化推算镀膜薄膜的物理厚度，并根据与基片厚度的差异来自动调节电子枪（2）的电子流能量和辅助离子源（3）的离子束流能量的大小。
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