[实用新型]套位除介质全息转印膜有效
| 申请号： | 201320545218.6 | 申请日： | 2013-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN203449776U | 公开（公告）日： | 2014-02-26 |
| 发明（设计）人： | 赵晓飞;吴明;王洁 | 申请（专利权）人： | 济南天业恒科技有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/42 | 分类号： | B41M5/42;B32B27/08;B32B27/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 250104 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种转印防伪膜技术领域，特别涉及一种套位除介质全息转印膜。其转印膜结构包括双向拉伸聚酯薄膜层，双向拉伸聚酯薄膜层上方交错设置有介质分离层和反射介质层，所述的介质分离层、反射介质层与双向拉伸聚酯薄膜层之间设置有模压分离层，所述的介质分离层是一种遇水可脱离所述的模压分离层的物质层。本实用新型的套位除介质全息转印膜防伪效果更好，可广泛应用，可以一次性完成局部或大面积冷热转印，用于印刷时不但增强防伪保护，而且能够简化使用者生产流程。 | ||
| 搜索关键词： | 介质 全息 转印膜 | ||
【主权项】：
一种套位除介质全息转印膜，包括双向拉伸聚酯薄膜层，其特征在于，所述的双向拉伸聚酯薄膜层上方交错设置有介质分离层和反射介质层，所述的介质分离层、反射介质层与双向拉伸聚酯薄膜层之间设置有模压分离层，所述的介质分离层是一种遇水可脱离所述的模压分离层的物质层。
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