[实用新型]套位除介质全息转印膜有效
| 申请号： | 201320545218.6 | 申请日： | 2013-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN203449776U | 公开（公告）日： | 2014-02-26 |
| 发明（设计）人： | 赵晓飞;吴明;王洁 | 申请（专利权）人： | 济南天业恒科技有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/42 | 分类号： | B41M5/42;B32B27/08;B32B27/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 250104 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 介质 全息 转印膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种套位除介质全息转印膜，包括双向拉伸聚酯薄膜层，其特征在于，所述的双向拉伸聚酯薄膜层上方交错设置有介质分离层和反射介质层，所述的介质分离层、反射介质层与双向拉伸聚酯薄膜层之间设置有模压分离层，所述的介质分离层是一种遇水可脱离所述的模压分离层的物质层。
2.根据权利要求1所述的套位除介质全息转印膜，其特征在于，所述的模压分离层为一层或两层的高分子树脂层。
3.根据权利要求1所述的套位除介质全息转印膜，其特征在于，所述的介质分离层是一种遇水可脱离所述模压分离层的被套印在模压分离层上的油墨或涂料。
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