[实用新型]一种改善灌点缺陷的流道结构有效

专利信息
申请号: 201320498049.5 申请日: 2013-08-15
公开(公告)号: CN203391225U 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 张永伟 申请(专利权)人: 冠捷显示科技(厦门)有限公司
主分类号: B29C45/27 分类号: B29C45/27
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 360000 福建省厦门市翔*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型公开了一种改善灌点缺陷的流道结构,其包括上模和下模,上模和下模沿流道内塑胶熔体的流动方向依次设有主流道、潜胶流道和浇口,主流道一侧设有与其连通的导向块,所述潜胶流道上设有储存腔,该储存腔的入口截面与出口截面平行于主流道中心线的法向面,储存腔入口的中心高度低于出口的中心高度,入口截面面积是出口截面面积的2~10倍。本实用新型采用以上结构,与传统的流道结构相比,在潜胶流道上设置储存腔,储存腔入口的中心高度低于出口的中心高度,入口截面面积是出口截面面积的2~10倍,确保前端冷料在进入模具型腔前被储存起来,而不能进入模具型腔,这种流道结构无需增加模具加工成本和成型成本,即可除去前端冷料,改善灌点缺陷。
搜索关键词: 一种 改善 点缺陷 结构
【主权项】:
一种改善灌点缺陷的流道结构,其包括上模和下模,上模和下模沿流道内塑胶熔体的流动方向依次设有主流道、潜胶流道和浇口,主流道一侧设有与其连通的导向块,其特征在于:所述潜胶流道上设有储存腔,该储存腔的入口截面与出口截面平行于主流道中心线的法向面,储存腔入口的中心高度低于出口的中心高度,入口截面面积是出口截面面积的2~10倍。
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