[实用新型]一种圆筒约束喷射沉积装置有效
| 申请号： | 201320476232.5 | 申请日： | 2013-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN203509031U | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 尹建成;王宇锋;郑大亮;刘英莉;钟毅 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | B22F3/115 | 分类号： | B22F3/115 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种圆筒约束喷射沉积装置，属于喷射成型技术领域。包括熔炼装置和沉积室，沉积室内部有喷射装置和可旋转并倾斜放置的底托、下端有气体出口，喷射装置包括带有雾化器的导流管，导流管的上端与熔炼装置相连；喷射装置还包括可自转的竖直圆筒，竖直圆筒的上端与导流管相连、下端对准可旋转并倾斜放置的底托。竖直圆筒的设置可以大大减少过喷粉末，制得的成品切边料和头尾的量较少，喷射空间的减小，可以提高沉积坯的致密度和降低气体消耗量，即提高成材率、降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 圆筒 约束 喷射 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种圆筒约束喷射沉积装置，包括熔炼装置和沉积室（13），沉积室（13）内部有喷射装置和可旋转并倾斜放置的底托（12）、下端有气体出口（14），喷射装置包括带有雾化器（4）的导流管（3），导流管（3）的上端与熔炼装置相连，其特征在于：喷射装置还包括可自转的竖直圆筒（5），竖直圆筒的上端与导流管（3）相连、下端对准可旋转并倾斜放置的底托（12）。
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