[实用新型]绝缘栅双极型晶体管有效

专利信息
申请号: 201320220862.6 申请日: 2013-04-26
公开(公告)号: CN203456468U 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 弗兰克·普菲尔什;汉斯-约阿希姆·舒尔茨;霍尔格·豪斯肯 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/10;H01L29/423
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 德国瑙伊*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 实用新型公开了一种绝缘栅双极型晶体管,包括:发射极;以及半导体主体,其中所述半导体主体包括:第一基区,具有第一导电类型;源区,具有不同于所述第一导电类型的第二导电类型,并与所述第一基区形成第一pn结;防闩锁区(P+),形成在所述第一基区中,具有至少一个位于所述源区之下并与所述源区接触的第一部分,所述防闩锁区具有所述第一导电类型,并且掺杂浓度大于所述第一基区的掺杂浓度;以及至少一个沟槽,其中,所述至少一个沟槽被填充有栅电极,其中,所述至少一个沟槽具有:第一沟槽部,具有第一宽度;以及第二沟槽部,具有第二宽度;所述第二宽度不同于所述第一宽度。通过本实用新型的技术方案,防止了IGBT发生闩锁效应。
搜索关键词: 绝缘 栅双极型 晶体管
【主权项】:
一种绝缘栅双极型晶体管(200,300,400,600),其特征在于,包括: 发射极(29,39);以及 半导体主体,其中所述半导体主体包括: 第一基区(24,34,44),具有第一导电类型; 源区(25,35,45),具有不同于所述第一导电类型的第二导电类型,并与所述第一基区(24,34)形成第一pn结; 防闩锁区(P+),形成在所述第一基区(24,34,44)中,具有至少一个位于所述源区(25,35,45)之下并与所述源区(25,35,45)接触的第一部分,所述防闩锁区(P+)具有所述第一导电类型,并且掺杂浓度大于所述第一基区(34)的掺杂浓度;以及 栅极,形成在栅极沟槽中,其中,所述栅极沟槽被填充有栅电极,其中,所述栅极沟槽具有:第一沟槽部(261),具有第一宽度;以及第二沟槽部(262),具有第二宽度;所述第二宽度不同于所述第一宽度。 
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