[实用新型]一种深孔模拟电镀实验槽

摘要

本实用新型公开了一种深孔模拟电镀实验槽，用于电镀技术研究和镀液性能测试。由于阴极直角脚试片的直脚置于电镀实验槽阴极壁的孔洞内，孔口对电力线的屏蔽，直角脚上的电流密度大幅降低，孔口与直角脚的电流密度之差扩大，即电流密度高区/低区比值扩大，使长度有限的实验试片展示出更宽的电流密度范围，扩大了测试范围。孔洞与直角脚的形成，试片上增添了电流密度层次区域和观察窗口，提高了测试功能和精度。在保持霍尔槽原有的功能作用的同时，增加了对几何形状复杂镀层均匀度、印制电路微孔电镀填充的研究测试等实验功能。实验槽及试片制作经济、使用简单方便。

主权项

一种深孔模拟电镀实验槽，由霍尔槽改进而成，保持霍尔槽阴、阳极间距离和阴极壁长度以及放置斜度不变，其特征是；把阴极壁扩厚15毫米至24毫米，在壁上设置1‑10个矩形通孔，其孔口宽6毫米‑10毫米，高4毫米‑24毫米，在阴极壁上放置阴极直角脚试片，其直脚置于矩形孔内。