[发明专利]形成用于光刻的涂层的方法有效
| 申请号: | 201310753797.8 | 申请日: | 2013-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN103926796B | 公开(公告)日: | 2018-11-30 |
| 发明(设计)人: | 张庆裕 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孙征 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 用于光刻的涂层材料和方法。提供了一种方法,该方法包括提供衬底和在衬底上形成底部抗反射涂层(BARC)。该BARC包括覆在第二部分上面的第一部分,第二部分具有不同于第一部分的组成。不同的组成可以提供BARC在显影剂中的不同溶解性质。在BARC的第一部分上形成光刻胶层。然后照射光刻胶层并对光刻胶层进行显影。显影包括利用显影剂去除光刻胶层的区域和BARC的第一部分和第二部分的区域。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 光刻 涂层 材料 方法 | ||
【主权项】:
1.一种形成涂层的方法,包括:提供衬底;在所述衬底上形成显影剂可溶性底部抗反射涂层(BARC),其中所述显影剂可溶性底部抗反射涂层包括覆在第二部分上面的第一部分,所述第一部分和所述第二部分具有不同的组成,所述第一部分和所述第二部分均为非感光材料;在所述显影剂可溶性底部抗反射涂层的所述第一部分上形成光刻胶层;照射所述光刻胶层;以及对所述光刻胶层进行显影,其中所述显影包括利用显影剂去除所述光刻胶层的区域和所述显影剂可溶性底部抗反射涂层的所述第一部分和所述第二部分的区域;其中,形成所述显影剂可溶性底部抗反射涂层包括形成显影剂可溶性底部抗反射涂层材料单层,通过分离所述显影剂可溶性底部抗反射涂层材料单层中的第一组分和第二组分形成所述显影剂可溶性底部抗反射涂层的所述第一部分和所述第二部分,根据所述第一组分和所述第二组分的分子量差别以及所述第一组分和所述第二组分的氟原子数量差别中的至少一种差别进行所述分离。
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