[发明专利]形成用于光刻的涂层的方法

权利要求书

1.一种形成涂层的方法，包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成显影剂可溶性底部抗反射涂层(BARC)，其中所述显影剂可溶性底部抗反射涂层包括覆在第二部分上面的第一部分，所述第一部分和所述第二部分具有不同的组成，所述第一部分和所述第二部分均为非感光材料；

在所述显影剂可溶性底部抗反射涂层的所述第一部分上形成光刻胶层；

照射所述光刻胶层；以及

对所述光刻胶层进行显影，其中所述显影包括利用显影剂去除所述光刻胶层的区域和所述显影剂可溶性底部抗反射涂层的所述第一部分和所述第二部分的区域；

其中，形成所述显影剂可溶性底部抗反射涂层包括形成显影剂可溶性底部抗反射涂层材料单层，通过分离所述显影剂可溶性底部抗反射涂层材料单层中的第一组分和第二组分形成所述显影剂可溶性底部抗反射涂层的所述第一部分和所述第二部分，根据所述第一组分和所述第二组分的分子量差别以及所述第一组分和所述第二组分的氟原子数量差别中的至少一种差别进行所述分离。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述显影剂可溶性底部抗反射涂层的所述第一部分在显影剂中具有与所述显影剂可溶性底部抗反射涂层的所述第二部分不同的溶解速率。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述显影剂可溶性底部抗反射涂层的所述第一部分在显影剂中具有小于所述显影剂可溶性底部抗反射涂层的所述第二部分的溶解速率。

4.一种形成涂层的方法，包括：

在衬底上形成涂层；

将所述涂层分离成第一显影剂可溶性部分和下面的第二显影剂可溶性部分，其中，通过使第一聚合物浮动至所述第一显影剂可溶性部分的顶面实施所述分离，所述第一显影剂可溶性部分和所述第二显影剂可溶性部分均为非感光材料；

对所述涂层施用显影剂；

利用所述显影剂以第一溶解速率溶解所述第一显影剂可溶性部分；以及

利用所述显影剂以第二溶解速率溶解所述第二显影剂可溶性部分；

其中，所述第一显影剂可溶性部分包括的聚合物具有比所述第二显影剂可溶性部分包括的聚合物更高百分比的氟。