[发明专利]彩膜层制作方法有效
| 申请号： | 201310741499.7 | 申请日： | 2013-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN103744139B | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 永山和由 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李迪 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，公开了一种彩膜层制作方法，包括步骤：在阵列基板的钝化层上对应亚像素的区域形成包括黑矩阵槽和彩色滤光片槽的图形；按预设的彩色滤光片排列方式在所述N种彩色滤光片槽中形成N种彩色滤光片，并在黑矩阵槽中形成包括至少两种颜色的彩色滤光片，以形成彩膜层。本发明通过采用喷墨的方式在彩膜层上形成黑矩阵，这样底发射OLED的TFT不会被光照射到，不会产生光电效应导致漏电流增加的情况，从而提高了显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜层 制作方法 | ||
【主权项】：
一种彩膜层制作方法，其特征在于，包括步骤：在阵列基板的钝化层上对应亚像素的区域形成包括黑矩阵槽和彩色滤光片槽的图形；按预设的彩色滤光片排列方式在N种所述彩色滤光片槽中形成N种彩色滤光片，并在黑矩阵槽中形成包括至少两种颜色的彩色滤光片，以形成彩膜层；所述黑矩阵槽中彩色材料的高度的等于所述黑矩阵槽的高度，所述彩色滤光片槽中彩色材料的高度等于所述彩色滤光片槽高度相等。
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