[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201310731761.X | 申请日： | 2013-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN104745094B | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | 戴程隆;荆建芬 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种化学机械抛光液，包含研磨颗粒、有机胺和氧化剂。通过加入有机胺，克服了硅基材料在过氧化氢存在下的去除速率降低的问题。该抛光液同时具有对硅和铜的很高的抛光速率。同时，加入有机磷酸能够有效延缓双氧水在有机胺体系中的降解，显著增加抛光液的稳定性，具有较长的存储时间和在线使用寿命(pot life)。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光液，由研磨颗粒、有机胺、过氧化氢及至少一种有机膦酸组成，其中所述研磨颗粒的含量为1～5wt％，所述有机膦酸为羟基亚乙基二膦酸，氨基三亚甲基膦酸，2‑羟基膦酰基乙酸，乙二胺四亚甲基膦酸，二亚乙基三胺五亚甲基膦酸中的一种或多种，所述有机膦酸的含量为0.01～2wt％，所述有机胺为乙二胺、二乙烯三胺、五甲基二乙烯三胺、多乙烯多胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺中的一种或多种，所述有机胺的含量为0.05～5wt％，所述化学机械抛光液的pH大于7。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子（上海）有限公司，未经安集微电子（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310731761.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种汽车上光剂
- 下一篇：一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法
