[发明专利]一种化学机械抛光液及其使用方法在审
| 申请号： | 201310697623.4 | 申请日： | 2013-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN104726028A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 尹先升;房庆华;周仁杰;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于阻挡层的抛光液，包含水，氧化铈磨料，有机分散剂，络合剂，和腐蚀抑制剂，且该抛光液中不含有氧化剂。该抛光液不需要额外添加氧化剂，同时对二氧化硅（TEOS）、阻挡层Ta或Ti具有高的抛光速率，避免了抛光过程中氧化剂对铜线表面的腐蚀以及碟形凹槽等缺陷的产生，并降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种用于阻挡层的抛光液，包含水，氧化铈磨料，有机分散剂，络合剂，和腐蚀抑制剂，其特征在于，所述抛光液中不含有氧化剂。
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