[发明专利]一种化学机械抛光液及其使用方法在审
| 申请号： | 201310697623.4 | 申请日： | 2013-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN104726028A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 尹先升;房庆华;周仁杰;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 使用方法 | ||
1.一种用于阻挡层的抛光液，包含水，氧化铈磨料，有机分散剂，络合剂，和腐蚀抑制剂，其特征在于，所述抛光液中不含有氧化剂。
2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述氧化铈磨料的浓度为质量百分比0.1%-5%。
3.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述氧化铈磨料的平均粒径为60-160纳米，平均晶粒尺寸为10-60纳米。
4.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述有机分散剂选自聚丙烯酸、聚乙二醇、聚乙烯基吡咯烷酮中的一种或多种。
5.如权利要求4所述的抛光液，其特征在于，所述聚丙烯酸的分子量3000-5000、所述聚乙二醇的分子量为3000-1000、所述聚乙烯基吡咯烷酮的分子量为3000-10000。
6.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述有机分散剂的浓度为质量百分比0.001%-0.5%。
7.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述络合剂选自L-精氨酸、氨基乙酸、柠檬酸和醋酸中的一种或多种。
8.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述络合剂的浓度为质量百分比0.1%-1%。
9.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述腐蚀抑制剂为苯并三氮唑类化合物。
10.如权利要求9所述的抛光液，其特征在于，所述腐蚀抑制剂为苯并三氮唑和/或3-氨基-1,2,4-三氮唑。
11.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述腐蚀抑制剂的浓度为质量百分比0.01-0.1%。
12.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述水为去离子水。
13.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述抛光液还进一步含有pH调节剂。
14.如权利要求13所述的抛光液，其特征在于，所述pH调节剂为KOH或H2SO4。
15.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述抛光液的pH值为7.5-12.0。
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