[发明专利]磁控管以及磁控管溅射设备有效
| 申请号： | 201310690133.1 | 申请日： | 2013-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN103882394A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 李宰承;西门瑄;吴永泽;刘云锺 | 申请（专利权）人： | AP系统股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿道华城*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种包括磁控管的磁控管溅射设备。所述磁控管包括支撑板以及磁体，所述磁体设置成从垂直于所述支撑板的表面的旋转中心轴线朝向边缘扩展的螺旋形状。所述磁体被划分为多个扇形区，且在相应的扇形区中以均等间隔形成弧，以及所述多个扇形区中的仅一者的中心位于所述旋转中心轴线上，且中心位于所述旋转中心轴线上的扇形的中心角小于180度。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控管 以及 溅射 设备 | ||
【主权项】：
一种磁控管，其特征在于，包括：支撑板；以及磁体，设置成从垂直于所述支撑板的表面的旋转中心轴线朝向边缘扩展的螺旋形状，其中所述磁体被划分为多个扇形区，且在相应的扇形区内以均等间隔形成弧，以及其中所述多个扇形区中的仅一者的中心位于所述旋转中心轴线上，且中心位于所述旋转中心轴线上的所述扇形区的中心角小于180度。
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