[发明专利]一种光阻墙成型方法有效
申请号: | 201310666847.9 | 申请日: | 2013-12-10 |
公开(公告)号: | CN103698968B | 公开(公告)日: | 2017-01-25 |
发明(设计)人: | 徐成;于大全;李昭强 | 申请(专利权)人: | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 | 代理人: | 曹祖良,韩凤 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新区太湖国*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种光阻墙成型方法,其使用注塑技术成型一块平板,平板的正面具有相同高度的第一凸台和第二凸台,在第一凸台和第二凸台之间由凹槽分隔;将所述平板正面滚胶并与第一基板压合,再对平板背面进行碾磨减薄,直至第一凸台和第二凸台底部分离;并用紫外光照射去除第一基板上的粘性;采用一个转移基板将第一凸台从第一基板上分离出来,并将滚上胶的第一凸台背面与第二基板键合;最后解除第一凸台与转移基板间的临时键合,形成光阻墙结构。其优点是由于光阻墙结构是单独成型,相比传统光刻胶光刻方法可大大减少在光阻墙成型过程中污染导致不合格器件产生的几率。注塑使用的材料提高光阻墙光罩结构强度,有效减少分层和脱离等可靠性问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 光阻墙 成型 方法 | ||
【主权项】:
一种光阻墙成型方法,其特征是,包括以下步骤:(1)使用注塑技术成型一块平板,平板的正面具有第一凸台(1)和第二凸台(2),所述第一凸台(1)为网格状,每个网格内具有一个第二凸台(2),在第一凸台(1)和第二凸台(2)之间由凹槽分隔,所述第一凸台(1)与第二凸台(2)具有相同高度;所述平板的材料选自酚醛树脂、苯并恶嗪树脂、氰酸树脂、聚酰亚胺、双马来酰亚胺、聚苯醚、聚醚醚酮在内的封装树脂及其改性材料;(2)将所述平板正面滚胶并与第一基板(3)压合,使得所述第一凸台(1)和第二凸台(2)粘贴在所述第一基板(3)上;所述第一基板(3)为旋涂UV胶的基板;(3)对平板背面进行碾磨减薄,直至第一凸台(1)和第二凸台(2)底部分离;并用紫外光照射去除第一基板(3)上的粘性;(4)采用一个转移基板(7),所述转移基板(7)正面具有与所述第一凸台(1)一致的网格状凸台,将转移基板(7)的凸台与第一凸台(1)对准,进行滚胶、压合;(5)将第一凸台(1)从第一基板(3)上分离出来,并在第一凸台(1)背面滚胶;(6)将滚上胶的第一凸台(1)背面与第二基板(4)压合,并进行固化工艺,使得第一凸台(1)与第二基板(4)形成永久键合;所述第二基板(4)为透光率95%以上的透明基板;(7)通过解键合工艺解除第一凸台(1)与转移基板(7)间的临时键合,形成光阻墙结构。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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