[发明专利]光阻墙结构模块化成型方法有效
申请号: | 201310666745.7 | 申请日: | 2013-12-10 |
公开(公告)号: | CN103728830B | 公开(公告)日: | 2017-02-01 |
发明(设计)人: | 徐成;于大全;李昭强;姜峰 | 申请(专利权)人: | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68;H01L27/146;B29C45/00 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 | 代理人: | 曹祖良,韩凤 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新区太湖国*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明针对具有规则阵列结构的光阻墙结构提出一种模块化成型方法,将光阻墙结构版图分割为若干个相同的单元结构,首先制作单元结构,每个单元结构上都具有光阻墙的凸台和凹槽,多个单元结构拼接在一起可以获得整体的光阻墙结构图形。最后将拼接整体进行裁切得到所需形状的光阻墙结构。本发明的优点是1.使用注塑成型方法可提高光阻墙结构的生产效率。2.将复杂的腔体结构剖分为若干相同的单元结构,通过将单元结构进行对准拼贴,可灵活快速的生产复杂结构的腔体结构,降低一体成型的加工成本。 | ||
搜索关键词: | 光阻墙 结构 模块化 成型 方法 | ||
【主权项】:
光阻墙结构模块化成型方法,其特征是,包括以下步骤:(1)使用注塑技术成型光阻墙的单元结构,在单元结构四个角设置十字对准标记;所述单元结构为一块方形平板,平板的正面具有第一凸台和第二凸台,所述第一凸台为网格状,每个网格内具有一个第二凸台,在第一凸台和第二凸台之间由凹槽分隔;(2)将所述平板正面滚胶并与第一基板上的对准标记对准压合在第一基板上,拼贴为整体结构;(3)对拼贴后的整体结构进行裁切,获得与所需光阻墙结构图形一致的拼贴结构;(4)将步骤(3)得到的拼贴结构中方形平板的表面进行碾磨处理,使得第一凸台和第二凸台底部分离;除去第二凸台,保留第一凸台形成光阻墙结构;所述第一凸台表面平整度小于5微米;所述的平板结构有两种情况,第一种是:所述第一凸台的高度大于第二凸台,高度差大于20微米;在步骤(4)中第一凸台和第二凸台底部分离后,去除残留在第一基板上的第二凸台,并清洗去除第一凸台上的残留物,形成光阻墙结构;此种情况下,所述第一基板采用透光率95%以上的透明基板;第二种是:所述第一凸台与第二凸台具有相同高度,在步骤(4)中第一凸台和第二凸台底部分离后,用紫外光照射去除第一基板上的粘性;再采用一个转移基板,所述转移基板正面具有与第一凸台一致的网格状凸台,将转移基板的凸台与第一凸台对准,进行滚胶、压合;然后将第一凸台从第一基板上分离出来,并在第一凸台背面滚胶,将滚上胶的第一凸台背面与第二基板压合,并进行固化工艺,使得第一凸台与第二基板形成永久键合;最后通过解键合工艺解除第一凸台与转移基板间的临时键合,形成光阻墙结构;此种情况下,所述第一基板选用涂覆UV胶基板,所述第二基板选用透光率95%以上的透明基板;所述平板的材料选自包括环氧树脂、聚四氟乙烯、酚醛树脂、苯并恶嗪树脂、氰酸树脂、聚酰亚胺、双马来酰亚胺、聚苯醚、聚醚醚酮在内的封装树脂或其改性材料。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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