[发明专利]硅片表面机械抛光的方法

摘要

一种硅片表面机械抛光的方法，先将其进行清洗预处理，用酸性清洗液和碱性清洗液分别进行处理，晾干，然后用电火花削磨加工，超声波研磨机进行抛光处理，砂纸进行抛光处理，抛光布轮进行抛光处理，然后用油溶性金刚石研磨膏进行抛光处理。本技术方案所需的原材料和工艺成本较低，工艺流程精简，方法简单、工艺独特，工艺性好，可以满足对硅片抛光质量的需求，也有利于提高生产效率，降低生产和实现生产过程的自动化。

主权项

硅片表面机械抛光的方法，其特征在于：所述的方法步骤如下：（1）将硅片试样先用酸性清洗液进行清洗，然后碱性清洗液进行清洗，然后再用酸性清洗液进行清洗，晾干；（2）将步骤（1）所获得的硅片进行电火花削磨加工，时间为30‑60分钟，然后将所获得的硅片表面用超声波研磨机进行抛光处理，超声波研磨机的转速为35000‑40000转/分钟；（3）将步骤（2）所获得的硅片用型号为400目，600目，800目，1000目，1200目的砂纸中的一种进行抛光处理，时间为20‑40分钟；（4）将步骤（3）所获得硅片先用抛光布轮进行抛光处理，然后用金刚石研磨膏进行抛光处理，步骤（4）的时间为30分钟。