[发明专利]一种散裂中子源用固体靶片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310612833.9 申请日: 2013-11-27
公开(公告)号: CN104470189B 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 纪全;魏少红;张锐强;贾学军 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: H05H6/00 分类号: H05H6/00
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)11435 代理人: 孟阿妮
地址: 100049 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种散裂中子源用固体靶片及其制备方法,用以增强靶片中钽和钨的连接强度,提高靶片的寿命。其中,一种散裂中子源用固体靶片的制备方法,包括清洗待焊接的钨块与钽板;将所述钽板紧贴所述钨块的六个面,形成内装钨块的钽盒;密封焊接所述钽盒;将密封焊接后的钽盒放入热等静压炉内进行热等静压后取出,得到靶片。本发明提供的散裂中子源用固体靶片的制备方法不引入其它过渡金属,直接大面积扩散连接钽板与钨块,使制得的靶片中钽钨之间达到冶金结合,结合强度高,钽涂层致密,增强了靶片的抗冲刷腐蚀性能,提高了靶片寿命。
搜索关键词: 一种 中子源 固体 及其 制备 方法
【主权项】:
一种散裂中子源用固体靶片的制备方法,其特征在于,包括:分别清洗待焊接的钨块与钽板;将所述钽板紧贴所述钨块的六个面,形成内装钨块的钽盒;密封焊接所述钽盒;将密封焊接后的钽盒放入热等静压炉内进行热等静压后取出,得到靶片;将焊接后的钽盒放入热等静压炉内进行热等静压,包括:将热等静压炉用氩气洗炉两遍,并冲入氩气;将热等静压炉加热到1500-2000度,炉内气压保持在100-200MPa,保温2-4小时。
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