[发明专利]去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法

摘要

本发明为去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法，步骤S1：利用第j-1次和第j次抛光后光学元件面形数据的功率谱密度函数PSD_j-1、PSD_j，构建出平滑谱函数H模型即去除函数归一化后的傅里叶变换；步骤S2：将平滑谱函数H两端同时乘以得到关系式(2)：步骤S3：对关系式(2)进行m项求和相加运算，构建出第m次抛光工艺的误差抑制能力计算模型H_Modified；步骤S4：对n次抛光中的误差抑制能力计算模型进行取平均值计算，构建计算机控制表面成形抛光中去除函数在确定抛光条件下对不同频段误差抑制能力H_TIF模型。

主权项

1.一种去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法，其特征在于，该误差抑制能力的评价步骤如下：步骤S1：利用第j-1次和第j次抛光后光学元件面形数据的功率谱密度函数PSD_j-1、PSD_j，构建出平滑谱函数模型表示为：H=1-PSDjPSDj-1---(1)]]>关系式(1)中H为平滑谱函数即去除函数归一化后的傅里叶变换；步骤S2：将平滑谱函数两端同时乘以得到如下关系式：H·PSDj-1=PSDj-1-PSDj---(2)]]>步骤S3：对关系式(2)进行m项求和相加运算，构建出第m次抛光工艺的误差抑制能力计算模型H_Modified表示如下：HModified(m)=(PSD0-PSDm)Σj=0m-1PSDj---(3)]]>PSD₀是抛光前光学元件面形数据的功率谱密度函数，PSD_m是第m次抛光后光学元件面形数据的功率谱密度函数；步骤S4：对n次抛光中的误差抑制能力计算模型H_Modified进行取平均值计算，构建计算机控制表面成形抛光中去除函数在确定抛光条件下对不同频段的误差抑制能力H_TIF模型：HTIF=Σm=1n(PSD0-PSDm)Σj=0m-1PSDj/n---(4).]]>